真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

、真空鍍膜加工的表面硬度高 化學(xué)鍍鎳層的硬度一般在HV300-600，高的甚至可達(dá)到HV700以上，而電鍍鎳的硬度僅為 HV160-180，顯然化學(xué)鍍鎳層的硬度要遠(yuǎn)大于電鍍層的硬度.而其化學(xué)鍍鎳層經(jīng)過(guò)一定的熱處理后，其硬度還可以提高，可達(dá)HV900以上。

真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無(wú)論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進(jìn)的計(jì)算機(jī)技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜設(shè)備更具性和智能自動(dòng)化。

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開(kāi)始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富?？傮w來(lái)說(shuō)，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱(chēng)真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

PVD鍍膜過(guò)程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類(lèi)，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱(chēng)。所以對(duì)于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。