脈沖激光沉積系統(tǒng)配置介紹

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脈沖激光沉積系統(tǒng)配置：

生長(zhǎng)室，進(jìn)樣室可選水平、垂直兩種靶臺(tái)可選激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺(tái)可選，激光加熱高的溫度1200℃工藝氣路可以任意搭配配備高壓RHEED，工作氣壓可達(dá)100Pa可預(yù)留法蘭，用于LEED，K-Cell, E-beam等其它可選項(xiàng)如臭氧發(fā)生器，離子源，掩膜系統(tǒng)等。激光脈沖指的是脈沖工作方式的激光器發(fā)出的一個(gè)光脈沖，簡(jiǎn)單的說(shuō)，好比手電筒的工作一樣，一直合上按鈕就是連續(xù)工作，合上開(kāi)關(guān)立刻又關(guān)掉就是發(fā)出了一個(gè)“光脈沖”。