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化學鍍鎳可以選用多種還原劑，工業(yè)上應用普遍的是以次磷酸鈉為還原劑的化學鍍鎳工藝，其反應機理，普遍被接受的是“原子氫理論”和“氫化物理論”。經過化學鍍鎳這一技術的得金屬可以提高金屬的腐蝕性和耐磨性，這就增加了金屬物體的光澤和美觀?；瘜W鍍鎳適合于管狀或是外向復雜的小零件的光亮鍍鎳，不必再經拋光。

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化學鍍鎳的主要問題

由于化學鍍鎳層具有優(yōu)勢的均勻性、硬度、耐磨和耐蝕性等，綜合物理化學性能，用途十分廣泛。但是化學鍍鎳也存在一些問題：

鍍層厚度不均勻，由于零件各表面與水平面夾角不同，化學鍍鎳時，氫氣的排出的速度不同。零件上面產生的氫氣能迅速離開，而向下的表面上產生的氫氣則要沿表面上升到邊緣方能離開，從而減少了該面與鍍液的實際接觸時間，造成鍍層厚度不均勻的現(xiàn)象。