光學石英玻璃鏡片

光學石英玻璃采用光刻和離子交換工藝產(chǎn)生低損耗非線性光波導, 可制備小尺寸密集型超快全光速調制集成光路波導器件,為以超大規(guī)模數(shù)據(jù)傳輸與處理為基礎的信息高速公路通訊網(wǎng)絡信息的快速處理和容量的提高提供實用性元件。二、放入光學玻璃原材料：熔解爐（尤其是黏土爐）通過長期的枯燥后，放入依照特殊配方以及通過選別的原材料于熔解爐中，準備熔融。非線性光學材料和器件已成為光子學微結構和新型。玻璃的密度光學玻璃的密度是使用者及制造者所必須了解的基本物理性貭之一。此外，在計算玻璃的分子體積及分子折射度時也需要密度的數(shù)據(jù)。

影響光學玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具體看看：

A，清洗工藝的技術關鍵：光學玻璃經(jīng)過清洗后能否達到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好！

B，影響清洗后光學玻璃質量的因素及相應的解決方法：

（1）玻璃本身的質量螺旋送料機及被污染的情況，主要為：表面有霉點，氣泡，劃傷等，在機械處理中，如：研磨，搽試，測應力時，人為導致的污染情況不一；

（2）清洗劑的選擇其能動及溫度，水質；我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由 水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學式C3H8，具有側鏈的環(huán)狀烯烴，具有較強的 溶油能力；特點：低毒，不燃，清洗成本低等特點；

（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大小； 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于箱式變壓站10，側表面活性物質作用要削弱，當PH 值大于12時，側清潔度下降。

（4）溶液溫度及浸泡時間也同高溫循環(huán)風機樣影響去污效率； 當溫度上升，溶液的反應速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩(wěn)定 度下降。若溫度過高，會在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

（5）在清洗過程中，還應注意必須使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；

（6）光學玻璃經(jīng)清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關；

（7）清洗環(huán)境的清潔程度；

（8）清洗后的干燥工藝及溫度： 應盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水??；烘箱溫度控制在70度左右，時間在20分鐘左右。若溫度過高，會在玻璃邊角上產(chǎn)生花紋。

由于電子信息產(chǎn)業(yè)中涉及的半導體和光纖生產(chǎn)工藝，石英玻璃消耗大量石英板，環(huán)，板，法蘭，溝槽船，擴散爐管，清洗槽，大尺寸石英坩堝，纖維光學套管，保持棒等石英材料，對國內(nèi)天然高純石英材料的需求和技術提出了新的要求，為石英玻璃材料和制品行業(yè)帶來了巨大的發(fā)展，肯定會推動石英玻璃材料和制品業(yè)的發(fā)展。3、每季度需定時檢查通氣管道、氣閥、燈頭等設備零部件的安全狀況。質量和數(shù)量穩(wěn)步增長。據(jù)稱，全球電子信息產(chǎn)業(yè)正在發(fā)展中。作為電子信息的基礎材料，石英材料將在未來5 - 10年內(nèi)迎來新的高潮。石英材料在高科技產(chǎn)業(yè)中將逐漸變得越來越重要。支持材料。