氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置

科儀創(chuàng)新產(chǎn)品主要有：薄膜制備設(shè)備，真空冶金設(shè)備，檢漏設(shè)備，真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品；系列分子泵，離子泵，鈦升華泵，深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備；系列干式渦旋泵，干式爪泵，干式螺桿泵等無(wú)油真空獲得設(shè)備；檢漏儀在使用過(guò)程中，往往會(huì)因?yàn)楫a(chǎn)生的一些故障或是現(xiàn)象，而影響檢漏工作的正常進(jìn)度，若對(duì)其置之不理還會(huì)危及檢漏儀的使用壽命。超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些，希望對(duì)您有所幫助！

1. 檢漏儀專用分子泵

2. 機(jī)械泵或者干泵

3. 定制檢漏儀專用電磁閥

4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口

5. 放大器

6. 采用質(zhì)譜專用模塊

以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內(nèi)容，科儀創(chuàng)新專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏，歡迎新老客戶蒞臨。

氦質(zhì)譜檢漏儀的主要及時(shí)指標(biāo)

科儀創(chuàng)新是專業(yè)生產(chǎn)氦質(zhì)譜檢漏儀的廠家，專業(yè)用于電廠檢漏。關(guān)鍵部件均為進(jìn)口，性能穩(wěn)定可靠。不僅靈敏度高，而且操作方便，能夠雙燈絲自動(dòng)切換、自動(dòng)調(diào)零、自動(dòng)校準(zhǔn)和自動(dòng)量程切換。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來(lái)分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要及時(shí)指標(biāo)。

1. 較小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s

2. 漏率顯示范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s

3. 啟動(dòng)時(shí)間：≤5min

4. 響應(yīng)時(shí)間：≤1s

5. 檢漏口的較高壓力：1500Pa

6. 電源要求：220v，50Hz，單相，10A

7. 工作環(huán)境：5-35℃

8. 相對(duì)濕度：≤80%

9. 外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）

10. 重量：64kg

 以上就是關(guān)于氦檢漏的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

氦氣檢漏儀

氦氣檢漏儀是氦質(zhì)譜檢漏儀((Helium Mass Spectrometer Leak Detector)的俗稱，運(yùn)用質(zhì)譜原理制成的儀器稱為質(zhì)譜計(jì)或質(zhì)譜儀。今天科儀創(chuàng)新小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏的工作原理，希望對(duì)您有所幫助。質(zhì)譜儀通過(guò)其核心部件質(zhì)譜室，使不同質(zhì)量的氣體變成離子并在某種場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)后，不同質(zhì)荷比的離子在場(chǎng)中彼此分開(kāi)，而相同質(zhì)荷比的離子在場(chǎng)中匯聚在一起，如果在適當(dāng)位置安置接收1器接收所有這些離子，就會(huì)得到按照質(zhì)荷比大小依次分開(kāi)排列的質(zhì)譜圖，這就是質(zhì)譜。

用于檢漏的質(zhì)譜儀稱為質(zhì)譜檢漏儀。測(cè)量氣體分壓力的所有質(zhì)譜計(jì)，如四極質(zhì)譜計(jì)、射頻質(zhì)譜計(jì)、飛行時(shí)間質(zhì)譜計(jì)、回旋質(zhì)譜計(jì)等都可以用于檢漏。

專門設(shè)計(jì)的以氦氣作示蹤氣體進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀稱為氦質(zhì)譜檢漏儀。這種儀器除靈敏度高外，還具有適應(yīng)范圍廣、定位定量準(zhǔn)確、無(wú)毒、安全、反應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)。氦質(zhì)譜檢漏儀中用得較多的是90°和180°的磁偏轉(zhuǎn)型質(zhì)譜儀。

眾所周知，當(dāng)一個(gè)帶電質(zhì)點(diǎn)（正離子）以速度v進(jìn)入均勻磁場(chǎng)的分析器中，如果速度v的方向和磁場(chǎng)H的方向相垂直，則它的運(yùn)動(dòng)軌跡為圓，如圖1所示。氫和氦都是比較理想的示蹤氣體，空氣中的含量少，質(zhì)量輕，運(yùn)動(dòng)速度快，分子直徑小，同等條件下，直線運(yùn)動(dòng)距離長(zhǎng)。當(dāng)磁場(chǎng)的磁通密度一定時(shí)，不同質(zhì)荷比（m/e）的離子在磁場(chǎng)中都有相應(yīng)的運(yùn)輸半徑，也就是都有相應(yīng)的圓軌跡，這樣，不同質(zhì)荷比的帶電粒子在磁場(chǎng)分析器中運(yùn)動(dòng)后就會(huì)彼此分開(kāi)。如果在離大運(yùn)動(dòng)的路徑中安置一塊檔板將其他離子檔掉，而在對(duì)應(yīng)的氦離子運(yùn)動(dòng)半徑位置的檔板上開(kāi)一狹縫，狹縫后安置離子接收極，這樣的只有氦離子才能通過(guò)狹縫而被接收極接收形成氦離子流，并經(jīng)放大器放大后由測(cè)量?jī)x表指示出來(lái)。檢漏時(shí)，如果用氦氣噴吹漏孔，氦氣便通過(guò)漏孔進(jìn)入檢漏儀的質(zhì)譜室中，使檢漏儀的測(cè)量?jī)x表立即靈敏地反應(yīng)出來(lái)，達(dá)到了檢漏的目的。

氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。其中正壓吸槍法采用檢漏儀吸槍對(duì)被檢產(chǎn)品外表面進(jìn)行掃描探查，可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三（1）電子行業(yè)微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。筆者測(cè)算，在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。

科儀創(chuàng)新?lián)碛邢冗M(jìn)的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽(yù)高，我們竭誠(chéng)歡迎廣大的顧客來(lái)公司洽談業(yè)務(wù)。如果您對(duì)氦檢漏感興趣，歡迎點(diǎn)擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。