隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)材料的綜合性能要求也不斷提高，單一材料性能已不能滿足某些特定環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。國(guó)內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)經(jīng)過幾十年的發(fā)展，相對(duì)于國(guó)外鍍膜設(shè)備而言，在自動(dòng)化程度與技術(shù)上取得了一定的進(jìn)步，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和性方面尚需提升，設(shè)備仍依賴進(jìn)口。同時(shí)多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場(chǎng)存在供大于求的情況，價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)較為激烈。鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴、七彩等。

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能，則這一技術(shù)又是真空鍍膜處理技術(shù)中的重要組成部分。物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。

真空鍍膜設(shè)備有關(guān)構(gòu)成及各部件：機(jī)械泵、增壓泵、油分散泵、冷凝泵、真空丈量系統(tǒng)。

真空鍍膜設(shè)備真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣.

機(jī)械泵：也叫前級(jí)泵，機(jī)械泵是應(yīng)用的一種低真空泵，它是用油來保持密封效果并依靠機(jī)械的方法不斷的改變泵內(nèi)吸氣空腔的體積，使被抽容器內(nèi)氣體的體積不斷膨脹從而獲得真空.

真空鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜機(jī)常見問題：真空鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜機(jī)其工作原理是在真空狀態(tài)下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜（如AL,Cr不銹鋼及TiN等）和耐磨膜，膜層與基底結(jié)合牢固，利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)，具有很好的發(fā)展前景。在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡(jiǎn)便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶對(duì)性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。