瓷磚真空鍍膜設(shè)備

經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高，可以生產(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設(shè)備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設(shè)備主要配置為陰極電弧蒸發(fā)源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設(shè)備特點(diǎn)：配強(qiáng)大抽氣系統(tǒng)，抽氣快，裝載量大，產(chǎn)能高，生產(chǎn)成本低?？梢陨a(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術(shù)可以得到各種彩色花紋圖案。經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高。

五金首飾真空鍍膜機(jī)

集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù)，結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，復(fù)合膜，多層復(fù)合膜的金屬表面上以及非金屬。金首飾真空鍍膜機(jī)集成了直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)技術(shù)，結(jié)合線性電離源和脈沖偏壓涂層薄的沉積顆粒。各種膜性能的改善，能大衣合金薄膜，復(fù)合膜，多層復(fù)合膜的金屬表面上以及非金屬。經(jīng)過多年專門的研發(fā)我們的工程師，通過獨(dú)特的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，我們開發(fā)了一套計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)使涂膜附著力密度以及復(fù)雜的一致性好，解決手工操作的復(fù)雜性，膜的顏色不一致等問題。

真空鍍膜機(jī)技術(shù)中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調(diào)查顯示，對于沉積速率，真空鍍膜機(jī)技術(shù)中的磁控濺射鍍膜運(yùn)用效果很好。有項(xiàng)研究就是對平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進(jìn)行各種對比。在這兩者之前，對其成膜的沉積速率的不同作出了實(shí)驗(yàn)研究。

在實(shí)驗(yàn)中，通過是平衡磁控濺射的基礎(chǔ)上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調(diào)整在整個(gè)靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當(dāng)離子密度提高，成膜的沉積速率也相應(yīng)提高，通過這種調(diào)整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時(shí)的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當(dāng)距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設(shè)定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時(shí)間就長了，在此時(shí)間內(nèi)受到真空鍍膜設(shè)備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對減少成膜的面積，所以這個(gè)距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時(shí)的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機(jī)的技術(shù)還是十分有效的