Parylene裂解儀

Parylene用獨(dú)特的真空氣相沉積工藝（CVD技術(shù)）制備，由活性小分子在基材表面'生長(zhǎng)'出完全敷形的聚合物薄膜涂層，它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，號(hào)稱'無(wú)孔不入'可深入裂縫里和內(nèi)表面。這種真空狀態(tài)下室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無(wú)、透明無(wú)應(yīng)力、不含助劑、不損傷工件、有優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性，甚至被業(yè)內(nèi)稱為當(dāng)今世界的防潮、防霉（零級(jí)）、防腐、防鹽霧的特殊防護(hù)涂層。派瑞林鍍膜加工的優(yōu)勢(shì)：可以抗酸堿腐蝕，可以抗溶解（在普通的溶劑中不會(huì)被溶解）。Parylene涂層在具備以上優(yōu)異防護(hù)性能基礎(chǔ)上,尤其還具有良好的生物兼容性,生物穩(wěn)定性，并有優(yōu)異的自潤(rùn)滑性,涂層均勻可控性,以及好的物理機(jī)械性能。

1.一腔體，采用SUS304不銹鋼艙體有效鍍膜空間 ≧ 直徑300mm x 高度350mm，腔體設(shè)有觀景窗, 采用掀蓋式腔蓋并設(shè)有把手以便腔蓋開(kāi)閉。

2. 旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可承載重量: 20公斤,旋轉(zhuǎn)速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦，抽氣速度 ≧ 200L/min ; 壓力 ≦ 5*10-3Torr。

4. 控制系統(tǒng)，采用具PID功能之溫控模塊及高的精度溫度傳感器，系統(tǒng)可進(jìn)行自動(dòng)或半自動(dòng)(溫控/真空)操作,并可儲(chǔ)存與選擇Recipe 。

5. 附屬冷凝機(jī)，溫度 ≦ -90℃

期望大家在選購(gòu)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品時(shí)多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話?。?！

鈣鈦礦鍍膜設(shè)備

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，今天我們來(lái)分享電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助！

設(shè)備用途 ：

適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域

設(shè)備組成：

該設(shè)備主要由沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、蒸發(fā)源、樣品加熱、電控系統(tǒng)、等部分組成。

      1、鍍膜室：方形前后開(kāi)門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板。

      2、真空度：鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：有機(jī)源蒸發(fā)源4個(gè)，無(wú)機(jī)蒸發(fā)源2套

      4、樣品架系統(tǒng)：樣品大小為Φ150mm的樣品，旋轉(zhuǎn)速度為：0～30轉(zhuǎn)/分；

      5、樣品在鍍膜過(guò)程中，可烘烤加熱，加熱溫度為：室溫～190℃，測(cè)溫控溫。

      6、膜厚控制儀：測(cè)量范圍0-999999?