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發(fā)布時間:2021-01-10 11:41  
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蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學(xué)溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關(guān)鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學(xué)顯影劑溶解,將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見的顯影方法是旋轉(zhuǎn)、噴霧、浸潤,然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。
多年來,人們總是認為電路板層數(shù)越少成本就越低,但是影響電路板的制造成本還有許多其它因素。近幾年來,多層板之間的成本差別已經(jīng)大大減小。在開始設(shè)計時盡量采用較多的電路層并使敷銅均勻分布,以避免在設(shè)計臨近結(jié)束時才發(fā)現(xiàn)有少量信號不符合已定義的規(guī)則以及空間要求,從而被添加新層。在設(shè)計之前認真的規(guī)劃將減少布線中很多的麻煩。