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大良汽車LED燈注塑的行業(yè)須知,佛山錦城鍍膜公司

發(fā)布時(shí)間:2020-08-08 07:31  

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物理l氣相沉積(真空鍍膜)基本方法 :

1、從沉積粒子能量(中性原子)來看,真空蒸鍍?yōu)?.1-1eV,濺射為1-10eV,離子鍍?yōu)?.1-1eV(此外還有高能中性原子)。

2、從沉積速率來看,真空蒸鍍?yōu)?.1-70μm/min,濺射為0.01-0.05μm/min(磁控濺射接近于真空蒸鍍),離子鍍?yōu)?.1-50μm/min。

物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)(由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的,因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù))。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

現(xiàn)有鍍膜工藝,多數(shù)均要求事先對工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗,既復(fù)雜又費(fèi)事。然而,離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過程。清洗效果,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強(qiáng)了附著力,簡化了大量的鍍前清洗工作。