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六甲基二硅烷[(CH3)3SiSi(CH3)3]，縮寫HMDS，主要用做，用于制備三甲基硅基陰離子、三硅烷和三甲基硅基堿金屬鹽及合成中基團的保護劑。此外，由于富含Si、C元素，在光電子行業(yè)和陶瓷行業(yè)也有一定的應(yīng)用。

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用三甲氯硅烷在30-40℃水解來制備六甲基二硅氧烷，但水解不徹底，收率不高，容易造成原料浪費。用三甲氯硅烷在30-40℃水解來制備六甲基二硅氧烷，但水解不徹底，收率不高，容易造成原料浪費。

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六甲基二硅氧烷是一種無色透明、易潮解的液體，它不溶于水，但溶于多數(shù)，其性能比較穩(wěn)定，是一種易燃物質(zhì)，遇高熱、明火及強氧化劑易引起燃燒，吸入、口服或經(jīng)皮膚吸收對身體有害。

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