真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。

真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數(shù):0.23VSNi;

工作溫度:580℃;

優(yōu)點(diǎn):增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現(xiàn)象;廣泛應(yīng)用於鋼料成型加工。

真空電鍍?cè)O(shè)備為更好的進(jìn)行測(cè)試、測(cè)定室內(nèi)溫度，真空電鍍?cè)O(shè)備使用測(cè)溫儀器和控溫儀器，避免溫度過(guò)高或不達(dá)標(biāo)真空電鍍?cè)O(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區(qū)別

1、真空鍍膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，電鍍出來(lái)的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測(cè)試不出來(lái)了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測(cè)試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測(cè)試儀即可。

早的是光控測(cè)試，現(xiàn)在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來(lái)測(cè)試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

真空鍍膜廠家依據(jù)技術(shù)請(qǐng)求挑選鍍制方法及方法，如電阻蒸騰(鎢絲、鉬舟、石墨舟)磁控源(同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材原料及尺度多弧源(Ф60，Ф80直徑靶材，氣動(dòng)、電動(dòng)的引弧等)，真空丈量可挑選數(shù)字式智能真空計(jì)及其優(yōu)異的丈量規(guī)管，及其它丈量?jī)x器，如主動(dòng)壓強(qiáng)操控儀等。膜厚丈量可選用方塊電阻丈量?jī)x，透過(guò)率計(jì)等。充氣方法可選用質(zhì)量流量計(jì)、浮子流量計(jì) 針閥及相應(yīng)的充氣閥門，并可挑選多路充氣管路及相應(yīng)流量參數(shù)。

　3、底涂烘干：SZ-97鍍膜油系列均為自干型漆，烘干的目的是為了提高生產(chǎn)效率。通常烘干的溫度為60-70oC,時(shí)間約2小時(shí)。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。

　　4、鍍膜：鍍膜時(shí),應(yīng)保證鍍膜機(jī)的真空度達(dá)到要求后,再加熱鎢絲,并嚴(yán)格控制加熱時(shí)間。同時(shí)應(yīng)掌握好鍍膜用金屬(如鋁線)的量,太少可能導(dǎo)致金屬膜遮蓋不住底材,太多則除了浪費(fèi)外,還會(huì)影響鎢絲壽命和鍍膜質(zhì)量。