公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

透明基板1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass）2、透明樹脂遮光膜（1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。（2）乳膠。

如需要烤版，烤版時(shí)要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長(zhǎng)405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開、過濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會(huì)均勻變色。不同的PS版，烘烤時(shí)間、溫度及終顏色會(huì)不一致，所以需通過試驗(yàn)確定烤版條件。

機(jī)顯時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。②在顯影之前必須保持各傳動(dòng)輥清潔，若牽引輥不干凈，顯影時(shí)印版易粘上臟點(diǎn)。③如顯影機(jī)有涂膠裝置，一定注意膠輥要保持清潔，否則要弄臟印版。④一般情況下，陽(yáng)圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護(hù)膠時(shí)，一定要均勻施膠，不能太厚，以免干后導(dǎo)致涂層龜裂和掉版。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長(zhǎng)，主要用于掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率較高，熱膨脹率相對(duì)高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對(duì)弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版