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發(fā)布時間:2021-09-07 06:16  
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光刻膠京東方
事實上,我國是在缺乏經(jīng)驗、缺乏專業(yè)技術(shù)人才,缺失關(guān)鍵上游原材料的條件下,全靠自己摸索。近年來,盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破,但國產(chǎn)光刻膠還是用不起來。目前,國外阻抗已達(dá)到15次方以上,而國內(nèi)企業(yè)只能做到10次方,滿足不了客戶工藝要求和產(chǎn)品升級的要求,有的工藝雖達(dá)標(biāo)了,但批次穩(wěn)定性不好?,F(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國人Nicephoreniepce在各種材料光照實驗以后,開始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。
“10次方的光刻膠經(jīng)過多次烘烤,由于達(dá)不到客戶需求的防靜電作用,不能應(yīng)用到新一代窄邊框等面板上。而國外做到15次方就有了很好的防靜電作用。這還是我們的光刻膠材料、配方、生產(chǎn)工藝方面存在問題。”李中強說。
關(guān)鍵指標(biāo)達(dá)不到要求,國內(nèi)企業(yè)始終受制于人。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說,目前已建立17個面板顯示生產(chǎn)基地,其中,有16個已經(jīng)投產(chǎn)。但京東方用于面板的光刻膠,仍然由國外企業(yè)提供。
PR1-2000A1NR94 8000PY光刻膠報價
4,曝光
前烘好的存底放在光刻膠襯底放在光刻機上,經(jīng)與光刻版對準(zhǔn)后,進(jìn)行曝光,接受光照的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化,形成潛影,
光源與光刻膠相匹配,也就是光源波長在光刻膠的敏感波段;
對準(zhǔn):指光刻板上與襯底的對版標(biāo)記應(yīng)準(zhǔn)確對準(zhǔn),這樣一套光刻版各版之間的圖形才能彼此套準(zhǔn)。
曝光時間,由光源強度,光刻膠種類,厚度等決定,
另外,為降低駐波效應(yīng)影響,可在曝光后需進(jìn)行烘焙,稱為光后烘焙(PEB)
NR77-20000P
正膠PR1-2000A1技術(shù)資料
正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米,可用于晶圓步進(jìn)器、掃描投影對準(zhǔn)器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求,在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑,如HMDS。
相對于其他的光刻膠,PR1-2000A1有如下的一些額外的優(yōu)勢:
PEB,不需要后烘的步驟;
較高的分別率;
快速顯影;
較強的線寬控制;
蝕刻后去膠效果好;
在室溫下有效期長達(dá)2年。
美國Futurre光刻膠
30.想請教國產(chǎn)光刻膠不能達(dá)到膜厚要求,進(jìn)口的有沒有比較好的光刻膠???


都可以??!goodpr是大陸比較多公司采用的,
但是Futurre 光刻膠在國外是比較有名氣的,包括很多大型企業(yè)都有用,膜厚做的也
比較厚從18um-200um都 可以做到,看你對工藝的要求了。
光刻膠品牌FUTURRE光刻膠產(chǎn)品屬性:
1 FUTURRE光刻膠產(chǎn)品簡要描述及優(yōu)勢:
1.1 Futurre光刻膠黏附性好,無需使用增粘劑(HMDS)
1.2 負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年
1.3 150度烘烤,縮短了烘烤時間
1.4 單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚
1.5 顯影速率快,100微米的膜厚,僅需6~8分鐘