電鍍不良在不同性質的產品中也有不同的影響，比如裝飾性外觀缺陷會導致產品不能像期望的那樣外觀完好，但它不會造成功能失效；而功能性表面缺陷是指產品構件的基材在產品使用過程中被腐蝕，這種缺陷是不允許在任何已經表面處理完畢的零件存在的。真空鍍鈦技術能提高零件的抗磨耗性。下降外表磨擦系數，滑動摩擦阻力更小。沒有對人體有害的元素和物質。環(huán)保無污染。可在200℃以下的低溫涂層，保證零件不變形，硬度不下降等優(yōu)勢。

加工工藝條件的控制直接影響著鍍鈦層的質量。只有掌握和控制好每個鍍種的各工藝條件，才能獲得鍍層。溫度、電流密度、pH值、鍍鈦時間等工藝條件必須相匹配。如在鍍硬鉻時，溫度和電流密度配合不當，對鍍鉻溶液的陰極電流效率、分散能力、鍍層硬度和光亮度都有很大的影響。當溫度較高時，需適當增加電流密度，才可以獲得所需的鍍層。二者互相制約，改變其一，另一因素必須跟著變化。因此對鍍鈦工藝條件控制不好，就會發(fā)生鍍鈦質量事故。

在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。