稀土拋光粉的粒度及粒度分布對(duì)拋光粉性能有重要影響。

　　對(duì)于一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數(shù)情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標(biāo)準(zhǔn)拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細(xì)和太粗的顆粒很少，無(wú)大顆粒的拋光粉能拋光出高質(zhì)量的表面，而細(xì)顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。

此外，稀土拋光粉也可以根據(jù)其添加劑的不同種類(lèi)來(lái)劃分，稀土拋光粉生產(chǎn)技術(shù)屬于微粉工程技術(shù)，稀土拋光粉屬于超細(xì)粉體，國(guó)際上一般將超細(xì)粉體分3種：納米級(jí)（1nm~100nm）；亞微米級(jí)（100nm~1μm）；微米級(jí)（1μm~100μm），據(jù)此分類(lèi)方法，稀土拋光粉可以分為：納米級(jí)稀土拋光粉、亞微米級(jí)稀土拋光粉及微米級(jí)稀土拋光粉3類(lèi)，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級(jí)，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據(jù)其物理化學(xué)性質(zhì)一般使用在玻璃拋光的后工序，進(jìn)行精磨




因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級(jí)稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤(pán)領(lǐng)域的應(yīng)用逐漸受到重視，產(chǎn)量逐年提高。納米級(jí)稀土拋光粉目前也已經(jīng)問(wèn)世，隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用前景不可預(yù)測(cè)，但目前其市場(chǎng)份額還很小，屬于研發(fā)階段。

　中系稀土拋光粉，主要適用于光學(xué)儀器的中等精度中小球面鏡頭的高速拋光。該拋光粉與高粉比較，可使拋光粉的液體濃度降低11%,拋光速率提高35%,制品的光潔度可提高一級(jí)，拋光粉的使用壽命可提高30%.目前國(guó)內(nèi)使用這種拋光粉的用量尚少，有待于今后繼續(xù)開(kāi)發(fā)新用途。

　　低系稀土拋光粉，如771型適用于光學(xué)眼鏡片及金屬制品的高速拋光；797型和C-1型適用于電視機(jī)顯象管、眼鏡片和平板玻璃等的拋光；H-500型和877型適用于電視機(jī)顯象管的拋光。此外，其它拋光粉用于對(duì)光學(xué)儀器，攝像機(jī)和照像機(jī)鏡頭等的拋光，這類(lèi)拋光粉國(guó)內(nèi)用量，約占國(guó)內(nèi)總用量85%以上。