金屬硅：硅的性質(zhì)。硅是半金屬之一,舊稱“矽”。合金密度小，熱膨脹系數(shù)低，鑄造性能和抗磨性能好，用其鑄造的合金鑄件具有很高的抗擊沖擊能力和很好的高壓致密性，可大大提高使用壽命，常用其生產(chǎn)航天飛行器和汽車零部件。熔點為1420℃，密度為2.34克/厘米3。質(zhì)硬而脆。在常溫下不溶于酸，易溶于堿。金屬硅的性質(zhì)與鍺、鉛、錫相近，具有半導體性質(zhì)。硅在地殼中資源極為豐富，僅次于氧，占地殼總重的四分之一還強，以二氧化硅或硅酸鹽形式存在。“金屬硅”（我國也稱工業(yè)硅）是上世紀六十年代中期出現(xiàn)的一個商品名稱。它的出現(xiàn)與半導體行業(yè)的興起有關。

金屬硅：化學用硅生產(chǎn)原料在化學用硅生產(chǎn)上，原料是實現(xiàn)良好作業(yè)的先決條件。用石英的巖石作生產(chǎn)化學金屬硅的原料，低灰分的含碳材料作還原劑。因為熔爐中碎塊在爐膛上部熔融，從而降低了爐料的透氣性，使生產(chǎn)過程難以進行。電爐法生產(chǎn)化學用硅的原料主要有硅石和碳素原料。碳素原料又以石油焦為主，有高品質(zhì)的煤或木炭，也可以摻用一部分，以增加爐料比電阻?！敖饘俟琛保ㄎ覈卜Q工業(yè)硅）是上世紀六十年代中期出現(xiàn)的一個商品名稱。它的出現(xiàn)與半導體行業(yè)的興起有關。

金屬硅：生產(chǎn)化學工業(yè)用硅的必要性。中國已開始加入化學用硅生產(chǎn)和供應國的行列，生產(chǎn)化學用硅的企業(yè)不斷增加。入爐的硅石要求有一定的粒度。硅石的粒度是冶煉的一個重要工藝因素。硅石適宜粒度受硅石種類、電爐、容量、操作狀況以及還原劑的種類和粒度等多種因素影響，要根據(jù)具體的冶煉條件來決定。一般情況下，6300KVA三相電爐，要求硅石粒度在8-100mm，3200KVA三相電爐，要求硅石粒度為8-80mm，而且中間粒度組成的比例要大些。

金屬硅：生產(chǎn)化學工業(yè)用硅的必要性。粒度過小，雖能增大還原劑的接觸表面，有利于還原反應的進行，但反應過程中生產(chǎn)的氣體不能順利排出，又會減慢反應速度。制造高純半導體：現(xiàn)代化大型集成電路幾乎都是用高純度金屬硅制成的，而且高純度金屬硅還是生產(chǎn)光纖的主要原料，可以說金屬硅已成為信息時代的基礎支柱產(chǎn)業(yè)。粒度過小時。帶入的雜質(zhì)又會增多，影響產(chǎn)品質(zhì)量。生產(chǎn)中一般小于5mm 的硅石不宜采用?！敖饘俟琛保ㄎ覈卜Q工業(yè)硅）是上世紀六十年代中期出現(xiàn)的一個商品名稱。它的出現(xiàn)與半導體行業(yè)的興起有關。