等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應,分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內,因此等離子化學活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學物質。

等離子拋光的優(yōu)勢。

     拋光技術是金屬表面處理的關鍵技術之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對工件表面精加工的過程，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低，一般說來伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機械、物理及化學性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

   等離子拋光采用的拋光技術是一種完全不同于傳統(tǒng)方法的新型拋光技術，此拋光技術是根據(jù)電化學原理與化學反應原理而研發(fā)設計的。其拋光技術不使用對環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學物品，但它的拋光效果卻能夠達到傳統(tǒng)方法很難達到的高品質，拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的，生產(chǎn)成本遠遠低于傳統(tǒng)拋光成本。

 由于等離子拋光有這些特性存在，所以目前應用的非常廣，并且有取代電解拋光的趨勢。

再在拋光過程中記錄拋光量計算硫酸銨拋光液濃度.前一種方法應用起來更為簡便,可用于一般工業(yè)生產(chǎn);后一種方法適用于對拋光效果要求更高的加工.經(jīng)實驗驗證兩種方法均具有可行性.針對形狀復雜的工件,從氣層厚度和電場強度兩方面研究工件上的空間位置和形狀對拋光的影響.對于一些形狀特殊的工件的拋光方法進行研究. 根據(jù)電解質等離子拋光及其工藝的研究成果,設計電解質等離子拋光設備,并使用該設備加工多種材質的工件,為該技術的工業(yè)化應用提供參考依據(jù).

等離子拋光和電解拋光的適用行業(yè)：

手機電子、集成電路制造、運動器材（高爾夫球具）、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、、手表飾品、汽車配件、LED制程、數(shù)碼配件、精密模具、航空航天及五金制品等行業(yè)。

等離子也稱為物質的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團、離子和電子。