小型氣相沉積設(shè)備排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設(shè)備。電氣設(shè)備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。

小型氣相沉積設(shè)備的日常維修應(yīng)該注意哪些？

1、例行保養(yǎng)消費設(shè)備中發(fā)現(xiàn)了一個欠好的痕跡，當(dāng)即處置。

小型氣相沉積設(shè)備不要以為這油活期轉(zhuǎn)換，等候修理時刻，轉(zhuǎn)子泵嚴峻磨損可以。例如，軸承的一些卡工件轉(zhuǎn)架，轉(zhuǎn)換軸承，然后比及它完好突破了，可真是個大作用，鍍膜機可以會引起轉(zhuǎn)架電機焚毀等。

2、定期檢修，鍍膜機有人會問一個日常的保護也需求活期保護?理想上，每個設(shè)備都有它自己的生命，如2年油分散泵的運用壽數(shù)，提前轉(zhuǎn)換，鍍膜機在消費階段沒有作用。

要你把日常保護和活期檢修，對設(shè)備的運用壽數(shù)，在同一時刻的延伸，消費進程中的收效概率大大添加，進步了消費功率。

3、不要盲目裝配。

鍍膜機作用的真空部分是困難的，而許多公司不泄漏檢測器，并將逐漸找到。

PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

離子鍍膜技術(shù)是PVD技術(shù)的一種，是指在PVD沉積過程中，被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體（如Ti離子，N離子），等離子體在偏壓電場的作用下，沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中，離子的能量更強，離子繞射性更好，膜層的結(jié)合力更好，膜層致密性也更好，膜層性能更好。

表面科學(xué)是在固體物理等許多科學(xué)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新科學(xué)，其研究對象是各種各樣的表面。真空鍍膜技術(shù)為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。特別是20世紀70年代在真空鍍膜基礎(chǔ)上發(fā)展起來的分子束外延技術(shù)，用他不但可以制備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜，而且還可以控制薄膜的成分和配比。這些薄膜的制備均為科學(xué)的研究和發(fā)展提供了充分的條件。

目前，幾乎任何材料都可以通過真空鍍膜工藝涂覆到其他材料的表面上，這為真空鍍膜技術(shù)在各種工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用開辟了更加廣闊的前景。