原來磁場強弱雖不好進行控制，但同時工件也在同時運轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個時間內(nèi)，磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個膜層成膜后，均勻性還是比較不錯的。

亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實際上和真空度差不多，因為亞氣的進入，真空室內(nèi)壓強會產(chǎn)生變化，均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。

東莞市仁睿電子科技有限公司主營加工：光學(xué)鍍膜、光學(xué)玻璃鍍膜、光學(xué)鏡片鍍膜、真空光學(xué)鍍膜、光學(xué)真空鍍膜、染色加工、塑料染色加工、杯子漸變加工、塑料漸變加工、亞克力面板、視窗鏡片、PC手機殼。

作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體光學(xué)鍍膜器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各種光學(xué)鍍膜。在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用光學(xué)光學(xué)鍍膜制備。

無色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過率，不出崩點。

光學(xué)鍍膜無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

光學(xué)鍍膜是在光學(xué)干涉原理，在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，使反射率在78-98%之間，以達到透光率，光學(xué)鍍膜技術(shù)一直是光學(xué)領(lǐng)域中不可忽略的重要基礎(chǔ)技術(shù)。