鹽霧試驗是一種主要利用鹽霧試驗設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗。它分為二大類，一類為天然環(huán)境暴露試驗，另一類為人工加速模擬鹽霧環(huán)境試驗。人工模擬鹽霧環(huán)境試驗是利用一種具有一定容積空間的試驗設(shè)備——鹽霧試驗箱，在其容積空間內(nèi)用人工的方法，造成鹽霧環(huán)境來對產(chǎn)品的耐鹽霧腐蝕性能質(zhì)量進行考核。它與天然環(huán)境相比，其鹽霧環(huán)境的氯化物的鹽濃度，可以是一般天然環(huán)境鹽霧含量的幾倍或幾十倍，使腐蝕速度大大提高，對產(chǎn)品進行鹽霧試驗，得出結(jié)果的時間也大大縮短。如在天然暴露環(huán)境下對某產(chǎn)品樣品進行試驗，待其腐蝕可能要1年，而在人工模擬鹽霧環(huán)境條件下試驗，只要24小時，即可得到相似的結(jié)果。以Fe/Zn、Fe/Cd、Fe/Cu/Ni/Cr等電鍍件的鹽霧試驗表明，鹽溶液的pH值為3。

鹽溶液的濃度對腐蝕速度的影響與材料和覆蓋層的種類有關(guān)。濃度在5%以下時鋼、鎳、黃銅的腐蝕速度隨濃度的增加而增加；17-93標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定“平板狀樣品的放置方法，應(yīng)該使受試面與垂直方向成30度角。當(dāng)濃度大于5%時，這些金屬的腐蝕速度卻隨著濃度的增加而下降。上述這種現(xiàn)象可以用鹽溶液里的氧含量來解釋，鹽溶液里的氧含量與鹽的濃度有關(guān)，在低濃度范圍內(nèi)，氧含量隨鹽濃度的增加而增加，但是，當(dāng)鹽濃度增加到5%時，氧含量達到相對的飽和，如果鹽濃度繼續(xù)增加，氧含量則相應(yīng)下降。氧含量下降，氧的去極化能力也下降即腐蝕作用減弱。但對于鋅、鎘、銅等金屬，腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。

噴霧裝置包括下列部分：1、 噴霧氣源：壓縮空氣經(jīng)除油凈化、進入裝有蒸餾水，其溫度高于箱內(nèi)溫度數(shù)度的飽和塔而被濕化。通過控壓閥，將干凈濕化的氣源壓力控制在70～170kPa（0.7～1.7kgf/cm）范圍內(nèi)。2、噴霧室：由噴霧器、鹽水槽和擋板組成，噴霧器可用一個或多個，由試驗區(qū)的大小決定。擋板可防止鹽霧直接射在試樣上。噴嘴和擋板放置和位置對鹽霧和分布有影響。3、鹽水貯槽：須裝有維持噴霧室內(nèi)鹽水槽液位一定的裝置。注：調(diào)節(jié)噴霧壓力、飽和器內(nèi)水溫和擋板的位置使箱內(nèi)鹽霧沉降和速度和鹽霧收集液中氯化鈉的濃度達到5.2條的規(guī)定值。2)鹽霧試驗是一種實驗室環(huán)境試驗，這類試驗不能單一地用試驗結(jié)果去判斷試驗過程的正確與否。