1、光學(xué)鍍膜加工時薄膜出現(xiàn)孔洞原因：①蒸發(fā)舟內(nèi)鋁料太滿。解決方法：降低送鋁速度；提高蒸發(fā)舟電流。②真空室內(nèi)蒸發(fā)舟之間出現(xiàn)短路。解決方法：排除短路。③真空室內(nèi)雜質(zhì)飛濺

2、光學(xué)鍍膜加工時薄膜出現(xiàn)拉伸現(xiàn)象原因：①基材張力太大。解決方法：調(diào)節(jié)放卷、卷取張力控制系統(tǒng)，適當(dāng)減少張力。②冷卻系統(tǒng)工作失常。解決方法：檢查冷卻系統(tǒng)，并排除故障。

真空鍍膜主要利用輝光放電將ya氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的亞氣離子化, 造成靶與亞氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電將亞氣離子撞擊靶材表面。

原來磁場強(qiáng)弱雖不好進(jìn)行控制，但同時工件也在同時運轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個時間內(nèi)，磁場強(qiáng)的作用下在原來薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個膜層成膜后，均勻性還是比較不錯的。

亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實際上和真空度差不多，因為亞氣的進(jìn)入，真空室內(nèi)壓強(qiáng)會產(chǎn)生變化，均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機(jī)膜厚度的均勻性。