常用的光學鍍膜有哪些？

二，光學薄膜

減反射膜是應用廣、產(chǎn)量大的一種光學薄膜，因此，它至今仍是光學薄膜技術中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設計新膜系,改進淀積工藝,使之用少的層數(shù)，簡單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到理想的效果。對激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強度，也是人們關心的問題之一。

反射膜

它的功能是增加光學表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內(nèi)部的光能相應減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。

真空鍍膜機工作的特點

真空鍍膜機工作的特點是濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定中頻設備必須加冷卻水進行冷卻，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應，電荷會聚集在電導有表面積，這樣會使電導發(fā)熱，所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。

冷水機能控制真空鍍膜機的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機就不能使真空鍍膜機達到、率控制溫度的目的，因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。

冷成型模真空鍍膜機

高強度材料成形冷成型模真空鍍膜機高強度金屬成型中存在的高成型壓力和產(chǎn)生的摩擦成為工模具和涂層要面對的重要挑戰(zhàn)。PVD和CVD涂層展示的韌性、耐磨性和抗磨損性能顯著提高工具的生產(chǎn)能力。

HC90Concept，作為一種無需氮化處理的新型物理氣相沉積（PVD）涂層，對于這些應用領域來講是非常理想的解決方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均結(jié)合了氮化處理，對于公差要求高的工具是非常合適的涂層方案。HC02和HC62是非常適合公差要求不高工具的涂層方案。

有色金屬材料成型有色金屬材料通常比一般鋼材有更好的成形性，但其表面更難改變。HCPVD和PACVD涂層工藝的韌性、耐磨性、低摩擦和抗磨損性能夠顯著加強工具的生產(chǎn)能力，提高零部件的質(zhì)量。冷鍛冷鍛是一種將固定大小的金屬塊組合成等量的復雜形狀的成型工藝。此過程中的工模具要經(jīng)受高強度的壓力和高速率，和工件接觸的表面必然會產(chǎn)生磨料和粘著磨損。HCPVD和PACVD和HCCVD涂層工藝的韌性、耐磨性和低摩擦性能能夠顯著提高工模具的使用壽命和產(chǎn)品的質(zhì)量。

全自動真空鍍膜機

適應于玻璃、塑膠等基片上鍍制各類光學薄膜和其它機能性裝飾薄膜的批量化生產(chǎn)

采用先進的電氣控制系統(tǒng)，良好的用戶操作界面，大大減輕作業(yè)人員的負擔

RCS自動鍍膜控制系統(tǒng)保證整個鍍膜過程自動完成

基片架轉(zhuǎn)動采用磁流體密封技術保證真空密封，中心驅(qū)動方式保證薄膜產(chǎn)品的均勻性及重復性

優(yōu)化的配置、嚴格的品質(zhì)控制保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和重復性

排氣速率.鍍膜效率的提高，大大縮短了產(chǎn)品生產(chǎn)周期