潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。對要求潔凈室的懸浮粒子濃度或微生物濃度更低的場合，就使用單向氣流。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產的濕度范圍為35—45%。

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無窗潔凈室的照明方式：

(1)一般照明它指不考慮特殊的局部需要，為照亮整個被照面積而設置的照明。

(2)局部照明這是指為增加某一地點（如工作點）的照度而設置的照明。但在室內照明由一般不單獨使用局部照明。

(3)混合照明這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設計規(guī)范》應占總照度的10%—15%，但不低干150LX。 單位被照面積上接受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。

防靜電

潔凈室中由于靜電引起的的事故屢有發(fā)生，因此潔凈室的防靜電能力如何已成為評價其質量的一個不可忽視的方面。

所謂靜電，是由于摩擦等原因破壞了物體中正( )負<一）電荷等量的均勻的電中性狀態(tài)，而使電荷過剩，物體呈帶電狀態(tài)，由于這些電荷平時是不流動的，故稱靜電。

特性：擁有環(huán)氧樹脂地板的一切優(yōu)異性能，可快速排泄靜電電荷、防靜電效力持久、表面電阻率達到10?5-109Ω、地面電阻排泄符合國際GB6650-86A標準。

適用范圍：生物工程車間、電子、微電子車間、無塵凈化室、電子元件生產區(qū)、半導體車間SMT、邦定車間等。