AF真空鍍膜機鍍膜原理

AF真空鍍膜機鍍膜原理：減反射膜又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個原理，在鏡片的表面鍍上減反射膜(AR-coating），使得膜層前后表面產(chǎn)生的反射光互相干擾，從而抵消了反射光，達到減反射的效果。簡單的增透膜是單層膜。一般情況下，采用單層增透膜很難達到理想的增透效果,為了在單波長實現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。減反射膜的實際應用非常廣泛，常見的是鏡片及太陽能電池-通過制備減反射膜來提高光伏組件的功率瓦值。目前晶體硅光伏電池使用的減反射膜材料是氮化硅，采用等離子增強化學氣相淀積技術，使氨氣離子化，沉積在硅片的表面，具有較高的折射率，能起到較好的減反射效果。早期的光伏電池采用二氧化硅和二氧化鈦膜作為減反射層。

電子束蒸發(fā)的優(yōu)點在于：

電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。

熱成型模真空鍍膜機有什么優(yōu)勢：

熱擠壓模：熱擠壓過程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經(jīng)受因腐蝕與超高溫而產(chǎn)生的高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學氣相沉積涂層展現(xiàn)了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩(wěn)定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學氣相沉積涂層通常適用于擁有復雜幾何圖形和較大長寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結(jié)合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過程中所使用的工具必須經(jīng)受高成形壓力，嚴重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經(jīng)歷要求嚴苛的熱環(huán)境條件。另外，它們必須經(jīng)受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰(zhàn)性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩(wěn)定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產(chǎn)品的質(zhì)量。

結(jié)合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。