電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的系統(tǒng)裝置介紹

1、系統(tǒng)自動(dòng)監(jiān)控和保護(hù)功能強(qiáng)，包括斷水報(bào)警、相序檢測與保護(hù)、溫度檢測與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測與保護(hù)等。

2、分子篩吸附裝置，避免機(jī)械泵返油造成膜層污染，提高薄膜純凈度。

3、膜厚監(jiān)測及控制系統(tǒng)，可在線監(jiān)測及控制膜層厚度，膜厚儀與基片擋板聯(lián)動(dòng)，形成閉環(huán)控制。采用晶振膜厚儀

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電子束鍍膜機(jī)介紹

* 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積

* 行星式基片夾具

* 基片RF/DC偏壓

* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

* 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

* 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC

* 不同的泵組選擇，可升級(jí)分子泵為冷泵，前級(jí)泵為干泵

* 進(jìn)樣室和自動(dòng)上下片/可支持單片和25片片夾

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電子束鍍膜屬于蒸鍍還是濺射？

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1.蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。

2.蒸發(fā)鍍主要包括：電阻加熱蒸發(fā)、感應(yīng)加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、激光加熱蒸發(fā)、離子束蒸鍍等。

3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬于熱蒸發(fā)鍍膜的范疇。

4.S槍濺射實(shí)際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環(huán)狀錐形，安裝在水冷座上。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的系統(tǒng)裝置介紹1、系統(tǒng)自動(dòng)監(jiān)控和保護(hù)功能強(qiáng)，包括斷水報(bào)警、相序檢測與保護(hù)、溫度檢測與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測與保護(hù)等。環(huán)狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直于靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運(yùn)動(dòng)，電子流密度很大，在靶面附近產(chǎn)生很強(qiáng)的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強(qiáng)的等離子體。