脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積系統(tǒng)具有獨特的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術（如RF源）集成于一臺設備上。可以生長各種可能的材料。

● 配有6個旋轉靶臺，實現多層薄膜結構生長。

● 可與準分子激光和Yag激光相連。

● 在線監(jiān)控儀器做為可選件，為客戶提供高質量的工藝信息反饋。

● 裝載室不但可以裝取樣品，還可以與其他生長設備或分析設備相連。

應用

● 多元素復合氧化物

● 高溫超導材料

● 磁性材料、金屬材料

● 低蒸汽壓材料

● MEMS

期望大家在選購脈沖激光沉積時多一份細心，少一份浮躁，不要錯過細節(jié)疑問。想要了解更多脈沖激光沉積的相關資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話?。。?

脈沖激光沉積的自動化

想要了解更多脈沖激光沉積的相關內容，請及時關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網站或撥打圖片上的熱線電話。

自動化裝置：

控制樣品溫度和旋轉

靶臺的位置控制

靶臺旋轉

氣體控制

速率及厚度計算（利用QCM輸出）

激光束掃描（可選）

激光束屏蔽控制

自動泵抽和充氣

差分泵抽結構

RHEED分析（可選）

裝載室壓強監(jiān)控（可選）

脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)

產品具有如下基本特點：

1. 系統(tǒng)可根據客戶的特殊要求設計，操作簡單方便。可使用大尺寸靶材生長大面積薄膜。

2. 電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門，方便更換基底和靶材

3. 雙軸磁性耦合旋轉靶材操縱器，可手動或計算機控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉器上，可手動或電動降低旋轉器，實現簡單快速地更換

4. 主腔室預留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等

5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡、反射鏡臺、動力反射鏡支撐架和智能視窗等，無需頻繁地校準光學組件。在激光通過大直徑靶材時可使其光柵掃描化（rastering），以獲得均勻性的薄膜。智能視窗不僅可準確監(jiān)視沉積過程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長時間保持激光束光路的清潔

6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設計，高溫下（950°C）可與銀膠兼容使用

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年脈沖激光沉積系統(tǒng)行業(yè)經驗，專注脈沖激光沉積系統(tǒng)研發(fā)定制與生產，先進的脈沖激光沉積系統(tǒng)生產設備和技術，建立了嚴格的產品生產體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話?。?！