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發(fā)布時(shí)間:2021-10-12 12:13  

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視頻作者:蘇州振鑫焱光伏科技有限公司






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為了滿足市場(chǎng)對(duì)于更低成本和更高生產(chǎn)力的要求,新一代線鋸必須提升切割速度,使用更長(zhǎng)的硅塊從而提高切割荷載。更細(xì)的切割線和更薄的硅片都提升了生產(chǎn)力,

同時(shí),先進(jìn)的工藝控制可以管理切割線拉力以此保持切割線的牢固性。使用不止一組切割切割線是在保持速度的前提下提高機(jī)臺(tái)產(chǎn)量的一個(gè)創(chuàng)新方法。應(yīng)用材料公司

新的MaxEdge 系統(tǒng)采用了獨(dú)特的兩組獨(dú)立控制的切割組件。



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硅片化學(xué)清洗是為了除去原子、離子不可見的污染,方法較多,有溶劑萃取、酸洗(硫酸、硝酸、王水、各種混合酸等)和等離子體法等。其中雙氧水體系清

洗方法效果好,環(huán)境污染小。一般方法是將硅片先用成分比為H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的強(qiáng)氧化性,將有機(jī)物分解而除去;,

由于H2O2的氧化作用和鹽酸的溶解,以及氯離子的絡(luò)合性,許多金屬生成溶于水的絡(luò)離子,從而達(dá)到清洗的目的。 

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硅片示蹤原子分析和質(zhì)譜分析表明,采用雙氧水體系清洗硅片,同時(shí)所用的全部化學(xué)試劑

H2O2、NH4OH、HCl能夠完全揮發(fā)掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片時(shí),在硅片表面會(huì)留下約2×1010原子每平方厘米的硫原子,用后一種酸性

清洗液時(shí)可以完全被清除。用H2O2體系清洗硅片無(wú)殘留物,有害性小,也有利于工人健康和環(huán)境保護(hù)。硅片清洗中用各步清洗液處理后,都要用超純水徹底沖洗



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當(dāng)前來(lái)說(shuō),世界上只有中國(guó)、美國(guó)、德國(guó)等少數(shù)國(guó)家具備硅微粉生產(chǎn)能力,中國(guó)硅微粉的市場(chǎng)主要還是在國(guó)內(nèi),集中在安徽鳳陽(yáng),浙江湖州,江蘇連云港等地,出口

量相對(duì)來(lái)說(shuō)比較小,多出口韓國(guó)和日本,國(guó)內(nèi)生產(chǎn)硅微粉的較大企業(yè)有安徽伊納高新技術(shù)有限公司和東海硅微粉廠,每月產(chǎn)量都在1000噸以上。太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的加

速又促使硅微粉的市場(chǎng)需求迅猛增長(zhǎng),硅微粉呈現(xiàn)出供不應(yīng)求的局面。

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