蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。首先，被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的，在盡量減小材料表面灰塵的前提下，我們還應(yīng)當(dāng)注意以下幾點：1、真空鍍膜設(shè)備使用一段時間后，必須要對設(shè)備進(jìn)行清潔維護(hù)。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。

如何正確使用真空鍍膜設(shè)備。

機床的正常進(jìn)行運行的情況下，啟動機器，要先打開水管，應(yīng)始終注意提高工作水壓力。

同時離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不能接觸，防止觸電。涂層中的電子槍，鋁的外鐘。建議用鉛玻璃觀察窗玻璃，應(yīng)戴眼鏡觀察鉛玻璃，防止射線照射人體。多層介質(zhì)膜涂層的沉積應(yīng)配備通風(fēng)除塵設(shè)備，及時清除有害粉塵。

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的真空蒸發(fā)鍍、濺射鍍膜和離子鍍等鍍膜技術(shù)。如今鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常廣泛，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。

如今隨著鍍膜技術(shù)的快速增長，各種類型的真空鍍膜機也開始隨之出現(xiàn)。所謂真空鍍膜設(shè)備工藝就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。