ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機(jī)束源爐：數(shù)量：4支，標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐?；臏囟葟氖覝刂?00℃（硅片上表面的溫度，只需標(biāo)定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動(dòng)密封手動(dòng)控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

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電阻熱蒸發(fā)鍍膜——“蒸發(fā)技術(shù)”介紹

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蒸發(fā)技術(shù)分為間歇蒸發(fā)與連續(xù)蒸發(fā)、直接電阻加熱蒸發(fā)和間接電阻加熱蒸發(fā),連續(xù)生產(chǎn)與制造厚膜時(shí)采用連續(xù)蒸發(fā)加熱。一個(gè)入射的蒸氣原子在表面的滯留時(shí)間中,原子不斷地?cái)U(kuò)散形成不均勻的成核作用，隨著蒸氣原子不斷地沖擊表面,各個(gè)核都在增長，相鄰各核開始接觸進(jìn)入聚結(jié)階段，直到形成連續(xù)膜。派瑞林裂解儀的工作原理由于裂解碎片的組成和相對含量與被測高分子的結(jié)構(gòu)密切相關(guān)，所以，每種高分子的裂解色譜圖都各有其特征，我們稱之為熱裂解指紋色譜圖。也可把上述過程劃分為小島階段、網(wǎng)絡(luò)階段、孔階段及連續(xù)膜階段。