研磨機配用拋光盤的技巧

研磨機配用拋光盤的技巧 研磨機分為單面和雙面，主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。在拋光過程中少不了一種耗材，那便是拋光盤，拋光盤關(guān)系到工件表面的精度。因此，選用拋光盤有一定的技巧，下面為大家小結(jié)3點。 首先不能使用廢棄且已經(jīng)磨損變形的拋光盤，一些小企業(yè)為了節(jié)省成本就會這樣做。其次盡量使用耐磨性能好的拋光盤，拋光盤的材質(zhì)有多種，不同材質(zhì)的耐磨性能各不相同，選擇材質(zhì)較好的拋光盤，在耐磨損性能方面也有一定的保證。 后，如果有耐磨性能很好但是稍微出現(xiàn)了磨損，建議采用人工修整拋光盤的平面，這樣可避免耗材的浪費。

平面研磨機需要的設(shè)備有哪些

平面研磨機需要的設(shè)備有哪些 研磨機主機采用調(diào)速電機驅(qū)動，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)。通過上、下研磨盤、太陽輪、游星輪在加工時形成四個方向、速度相互協(xié)調(diào)的研磨運動，達(dá)到上下表面同時研磨的運作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動太陽輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時，比如說研磨光學(xué)玻璃這種材質(zhì)的工件，我們可以采用半軟質(zhì)的磨盤（比如錫盤）或者軟質(zhì)的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點是磨盤比較容易保持平面度，所以會對加工工件的平面度產(chǎn)生一定的影響，而優(yōu)點是研磨出的工件表面變質(zhì)層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質(zhì)量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時用到的磨粒具備功能體現(xiàn)為形狀、尺寸均勻一致；能適當(dāng)?shù)钠扑?，使切刃鋒利；磨粒的熔點要比工件熔點高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤滑。對加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動性； 4）化學(xué)物理性能穩(wěn)定的，不會因放置或者溫升而分解變質(zhì)； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機研磨拋光時，會伴有發(fā)熱現(xiàn)象，除了工件和研具因溫度上升而發(fā)生形變難以進(jìn)行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點上也會產(chǎn)生相當(dāng)高的溫度，使加工變質(zhì)層深度增加。而適當(dāng)?shù)毓┙o加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質(zhì)層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對工件發(fā)揮化學(xué)作用以提高研磨拋光加工效率和質(zhì)量。

平面研磨機研磨的三種方式

平面研磨機研磨的三種方式 1)研磨外圓 說明：①研磨外圓一般在精磨或精車基礎(chǔ)上進(jìn)行。手工研磨外圓可在車床上進(jìn)行，工件和研具之間涂上研磨劑，工件由車床主軸帶動旋轉(zhuǎn)，研具用手扶持作軸向往復(fù)移動。 ②平面研磨機研磨外圓在研磨機上進(jìn)行，一般用于研磨滾珠類零件的外圓。 2)研磨內(nèi)圓 說明：研磨內(nèi)圓需在精磨、精鉸或精鏜之后進(jìn)行，一般為手工研磨。研具為開口錐套，套在錐度心軸上研磨劑涂于工件與研具之間，手扶工件作軸向往復(fù)移動。平面研磨機研磨一定時間后，向錐度心軸大端方向調(diào)整錐套，使之直徑脹大，以保持對工件孔壁的壓力。 3)研磨平面 說明：研磨平面一般在精磨之后進(jìn)行。手工研磨平面時，研磨劑涂在研磨平板(研具)上，手持工件作直線往復(fù)運動或“8”字形運動。研磨一定時間后，將工件調(diào)轉(zhuǎn)90°～180°，以防工件傾斜。對于工件上局部待研的面、方孔、窄縫等表面，也可手持研具進(jìn)行研磨。批量較大的簡單零件上的平面亦可在平面研磨機上研磨。