光刻膠工藝

普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能，F(xiàn)uturrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術。該技術的引入，可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射，從而改善光刻膠的分辨率性能，但由此將引起工藝復雜性和光刻成本的增加。0μmi、g和h線曝光波長曝光對生產效率的影響：金屬和介電質圖案化時省去干法刻蝕加工不需要雙層膠技術NR71-1500PY1。

LCD市場助力

全球LCD面板總出貨面積增長，LCD光刻膠需求增加。據WitsView數(shù)據，雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降，但是由于大屏顯示的市場擴增，LCD整體出貨面積變大，2016年出貨總面積達到1.7億平方米，同比增長4.6%。隨著LCD出貨面積的持續(xù)增長，中國產業(yè)信息網預測，未來幾年全球LCD光刻膠的需求量增長速度為4%~6%。隨著國內廠商占據LCD市場比重越來越大，國內LCD光刻膠需求也會持續(xù)增長。目前，上游電子化學品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴進口，必須加快面板產業(yè)關鍵核心材料基礎研究與產業(yè)化進程，才能支撐我國微電子產業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。

NR77-20000PMSDS

光刻膠運輸標識及注意事項

標簽上標明的意思

R標識

R10 YI燃。

S標識

S16  遠離火源-禁止吸煙。

S 24 避免接觸皮膚。

S 33對靜電放電采取預防措施。

S 9  將容器保持在通風良好的地方。

水生毒性

通過自然環(huán)境中的化學、光化學和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對水生生物是安全的。鹵化反應可能發(fā)生在水環(huán)境中。

?Futurrex

提供先進化學技術的多樣化解決方案

成立于1985年,總部設在美國新澤西州，富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司

公司業(yè)務覆蓋范圍包括北美，亞太以及歐洲

基于多樣化的技術

應用領域：微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷

解決方案：的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

客戶：從財富100強到以風險投資為背景的設備研發(fā)及制造公司

使命

目標

提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能

策略

提供獨特的產品來優(yōu)化生產制程，以提高設備能效

領的技術提升生產過程中的整體性價比

工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能

增加客戶的產能和生產的效率

工藝減化

非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

在生產過程中，不含有害溶劑

支持所有客戶的需要，與客戶共創(chuàng)成功