微弧氧化的原理

       微弧氧化通過讓氧與鋁結(jié)合，使鋁合金（輕質(zhì)但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，使其表面變得質(zhì)硬且耐蝕，進而達到了延長材料使用壽命的目的。同時，微弧電子學又是一種新型‘塑形’技術(shù)，通過負電性等離子體對材料進行納米尺度選取剝離，實現(xiàn)以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應用前景。微弧氧化工藝比陽極氧化簡單，氧化膜的綜合性能比陽極氧化膜高的多，是一項有廣闊前景的新技術(shù)。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

微弧氧化時間對表莫粗糙度的影響

       微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時間的延長近似呈線性增長。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系，而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復擊穿過程。在氧化初期，作用在膜層上的能量較低，產(chǎn)生的熔融物顆粒較少，膜層的表面粗糙度較低；隨著時間的延長，膜層表面的能量密度逐漸增大，熔融的氧化產(chǎn)物增多，并通過微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下，氧化物冷卻凝固，并發(fā)生多次擊穿。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過程中，產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多，從而增大了膜層表面的粗糙度。另外，在成膜過程中同時存在氧化膜的溶解過程，因此，若時間足夠長，膜層在溶解過程中其表面粗糙度也會出現(xiàn)小幅度的下降。微弧氧化采用微弧氧化技術(shù)對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產(chǎn)效率高，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點。

陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發(fā)生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化表面的陶瓷層比較致密，孔隙率極低，具有很高的耐腐蝕性能，鹽霧腐蝕性能提高5-10倍，綜合解決了實際應用的困擾問題，為鎂合金開發(fā)應用提供了技術(shù)保障，對“十五”國家科技攻關(guān)計劃具有重大意義，其社會效益和經(jīng)濟效益將十分顯著。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源