凈化工程的等級(jí)劃分比較的嚴(yán)格，一般按照7個(gè)等級(jí)進(jìn)行的劃分，分別是1級(jí)，10級(jí)，100級(jí)，1000級(jí)，10000級(jí)，100000，1000000級(jí)，凈化安全要求是根據(jù)等級(jí)來(lái)實(shí)施的，凈化工程等級(jí)數(shù)越小，級(jí)別是越高的，其含塵量越少，排名是靠前的。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。凈化工程在設(shè)計(jì)時(shí)，無(wú)論是新建還是重新改造的凈化車間，都一定依照國(guó)家相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行。

具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開(kāi)向潔凈度級(jí)別高的房間"1級(jí)：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對(duì)凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達(dá)到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進(jìn)，對(duì)潔凈室的要求越來(lái)越高。及時(shí)生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會(huì)使產(chǎn)品壽命受到影響。

我們國(guó)家的空氣分子控制等的技術(shù)正在朝有利的方向發(fā)展，這項(xiàng)技術(shù)原先是由日本發(fā)展起來(lái)的，現(xiàn)在已經(jīng)受到了全世界的關(guān)注和認(rèn)可，在我們國(guó)家，這項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)受到了相關(guān)行業(yè)的重視并且投入研發(fā)，相信在不久的未來(lái)，我們國(guó)家的相關(guān)科研人員一定會(huì)在這個(gè)領(lǐng)域取得讓人滿意的成績(jī)，為我們國(guó)家的凈化工程行業(yè)做出貢獻(xiàn)。潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。相通潔凈室之間的門要開(kāi)向潔凈度級(jí)別高的房間"凈化工程的等級(jí)劃分比較的嚴(yán)格，一般按照7個(gè)等級(jí)進(jìn)行的劃分，分別是1級(jí)，10級(jí)，100級(jí)，1000級(jí)，10000級(jí)，100000，1000000級(jí)，凈化安全要求是根據(jù)等級(jí)來(lái)實(shí)施的，凈化工程等級(jí)數(shù)越小，級(jí)別是越高的，其含塵量越少，排名是靠前的。

1000級(jí) 一般只對(duì)塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級(jí)，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級(jí)，這個(gè)級(jí)別比較的低，對(duì)凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。10級(jí)：主要用于帶寬小于2微米的半導(dǎo)體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級(jí)，并且我國(guó)半導(dǎo)體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來(lái)對(duì)潔凈度的要求更加高。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過(guò)25度。