通常用循環(huán)熱風(fēng)烤箱或熱風(fēng)道將墨膜內(nèi)的稀釋劑“趕”出去。正確掌握烘烤溫度和烘烤時(shí)間非常重要，若溫度低和時(shí)間短，膜內(nèi)的溶劑揮發(fā)不掉，曝光時(shí)粘菲林，顯影時(shí)膜不牢;如果溫度過(guò)高或烘烤時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，由于感光樹(shù)脂產(chǎn)生熱交聯(lián)反應(yīng)，部分雙鍵被打開(kāi)，已形成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，當(dāng)曝光時(shí)已失去光化學(xué)反應(yīng)機(jī)能，造成感度下降;顯影時(shí)，因未曝光部分已形成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，不溶于稀堿溶液，造成顯影難。


蝕刻，通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。來(lái)料檢驗(yàn)當(dāng)接到客戶需要加工的工件時(shí)，首先我們要經(jīng)過(guò)檢查，也就是我們目前IQC工序所要做的工作，把接到客戶的加工工件抹干凈，然后進(jìn)行仔細(xì)檢驗(yàn)，把來(lái)料中存在的不良品剔除出來(lái)，保證投入的產(chǎn)品是良品。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類。

曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板上。

蝕刻曝光就是通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

在感光科學(xué)中,鹵化銀的顯影過(guò)程可分為化學(xué)顯影和物理顯影兩大類.二者的區(qū)別在于:在化學(xué)顯影過(guò)程中,銀離子是來(lái)自于鹵化銀晶格,催化銀離子還原的是鹵化銀晶體曝光后產(chǎn)生的潛影中心,生成的金屬銀沉積在物理顯影核的表面,一般呈顆粒狀.基于物理顯影原理的銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移體系在一步攝影、直接制版印刷等多方面得到了廣泛的應(yīng)用，并擴(kuò)散轉(zhuǎn)移到物理顯影核層,由顯影劑還原成銀.用水洗液將乳劑層洗去后。