模具超硬膜離子鍍膜機(jī)

模具超硬膜離子鍍膜機(jī)是為模具鍍硬質(zhì)或超硬保護(hù)膜而設(shè)計(jì)的。真空鍍膜機(jī)真空鍍室的真空密封和室內(nèi)運(yùn)動(dòng)部件的設(shè)計(jì)和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只圓形電弧蒸發(fā)源，或配多個(gè)矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時(shí)配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應(yīng)活性，提高膜層致密性和結(jié)合力。

工件可三維運(yùn)動(dòng)，提高膜層均勻性，全自動(dòng)控制提高工藝穩(wěn)定性，可鍍制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、TiAlCN、TiCrN、TiCrCN、TiAlCrN、多層超硬膜等，應(yīng)用于精密模具業(yè)（沖壓模具、剪切模具、標(biāo)準(zhǔn)件模具、成型模具等）、工具行業(yè)（鉆頭、硬質(zhì)合金、銑刀、拉刀、絲錐和齒輪刀具等），汽車工業(yè)（活塞、活塞環(huán)、合金輪轂等）。

鏡面塑膠模具涂層設(shè)備

近年來，有鏡面要求的塑料產(chǎn)品越來越多，比如液晶電視的底座、面框、甚至后蓋。這就給對(duì)應(yīng)的鏡面模具提出了很高的要求，也帶來了很多的煩惱：制造成本高，使用壽命短，甚至在做表面清潔時(shí)都會(huì)刮花模具，反復(fù)拋光耽誤生產(chǎn)且成本高昂……通過鏡面塑膠模具涂層設(shè)備鍍膜可以很好的保證模具的鏡面效果（蝕紋/咬花面的效果也一樣可以完全保持）；也正因?yàn)槿绱?，如果模具表面鍍前有亂花、白點(diǎn)等異常，我們的涂層不可能將其掩蓋，所以在涂層前需要保證模具表面已經(jīng)達(dá)到使用的要求。

真空鍍膜機(jī)技術(shù)中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調(diào)查顯示，對(duì)于沉積速率，真空鍍膜機(jī)技術(shù)中的磁控濺射鍍膜運(yùn)用效果很好。有項(xiàng)研究就是對(duì)平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進(jìn)行各種對(duì)比。在這兩者之前，對(duì)其成膜的沉積速率的不同作出了實(shí)驗(yàn)研究。

在實(shí)驗(yàn)中，通過是平衡磁控濺射的基礎(chǔ)上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調(diào)整在整個(gè)靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當(dāng)離子密度提高，成膜的沉積速率也相應(yīng)提高，通過這種調(diào)整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時(shí)的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當(dāng)距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設(shè)定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時(shí)間就長了，在此時(shí)間內(nèi)受到真空鍍膜設(shè)備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對(duì)降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對(duì)減少成膜的面積，所以這個(gè)距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時(shí)的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機(jī)的技術(shù)還是十分有效的

鍍膜機(jī)真空機(jī)械選擇

鍍膜機(jī)真空機(jī)械選擇 鍍膜機(jī)真空機(jī)械選擇，真空泵在其工作壓強(qiáng)下，應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。 ⑴真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對(duì)工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許，應(yīng)選擇無振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施?！?⑵了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。選擇真空泵時(shí)，需要知道氣體成分，針對(duì)被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備，如冷凝器、除塵器等。