公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

玻璃反光解決方案

使用背光源，在玻璃下方用光源吧吧整個玻璃照亮可使玻璃不會反光在條件不允許使用背光源情況下使用 上光源 吧玻璃全部照亮，不要產(chǎn)生點光源得效果在機器視覺標定時使用藍光效果會更好得標定如果以上解決不了得話，可選用陶瓷標定板，表面漫反射效果 不會反光，

光掩膜除了應用于芯片制造外，還廣泛的應用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產(chǎn)生的效果是不樣的。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒有經(jīng)過預置

由于膠片制造時無法預先控制膠片中的濕度與每個生產(chǎn)車間的濕度一致，因此使用之前應先使其與工作環(huán)境達到平衡的狀況。建議預置時間為12小時，預置時必須打開膠片的內(nèi)包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

掩膜版是對勻膠鉻版經(jīng)過光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。