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發(fā)布時(shí)間:2020-12-18 10:35  
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鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應(yīng)用的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌,上市公司,品質(zhì)之選!
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鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學(xué)系統(tǒng):中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學(xué)分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動(dòng)匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管,降低了維護(hù)成本
8. 計(jì)算機(jī)控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動(dòng)泵,具有快速清洗功能
9. 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復(fù)性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD
≤2.0%(大于3小時(shí))

鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵,Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
2 雙光柵設(shè)計(jì),整個(gè)波長(zhǎng)分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率,國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀設(shè)計(jì)。
3 有效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
4 雙通道高靈敏PMT檢測(cè)器,寬動(dòng)態(tài)范圍信號(hào)處理技術(shù),具有優(yōu)異的檢測(cè)能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動(dòng)切換使用紫外PMT。
5 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過(guò)程,為用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。

由鋼研納克承擔(dān)的國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專項(xiàng)開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問(wèn)題,接近于商品水平的產(chǎn)品樣機(jī)將于年內(nèi)完成;ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機(jī)已成功組裝和調(diào)試,采集到正確的譜圖,這一突破標(biāo)志著在第二代樣機(jī)上采用的自主設(shè)計(jì)的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個(gè)關(guān)鍵、難點(diǎn)技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項(xiàng)目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。