廢氣處理設(shè)備環(huán)保設(shè)備有哪些

      UV光氧催化設(shè)備； UV光解設(shè)備； UV光解凈化設(shè)備； UV光解； UV光氧催化處理設(shè)備； 低溫等離子廢氣治理設(shè)備； 低溫等離子設(shè)備； 低溫等離子體； 雙介質(zhì)低溫等離子；DBD低溫等離子等

     鞏義市威邦機械制造有限公司是生產(chǎn)電路設(shè)備，塑料模具的專業(yè)廠家,多年來威邦人承蒙各級領(lǐng)導(dǎo)的扶持，社會各界朋友的大力支持，以高科技新工藝不斷創(chuàng)新，經(jīng)過多年的滾動發(fā)展，現(xiàn)已形成了集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的大型企業(yè)。

1.特定的波段（253.7納米）的紫外線對惡臭氣體的分子鏈進行分解，將其大分子結(jié)構(gòu)打破變成小分子結(jié)構(gòu)。2.特定的波段（185納米）波段的紫外線使空氣中的氧分子產(chǎn)生活性氧，即游離態(tài)的氧。因為游離氧所攜帶正負(fù)電子不平衡，所以與空氣中的氧分子結(jié)合，進而生成臭氧。催化燃燒法廢氣處理設(shè)備催化燃燒是典型的氣-固相催化反應(yīng)，其實質(zhì)是活性氧參與的深度氧化作用。3.受催化劑二氧化鈦（TIO2）的影響下，臭氧將打碎的惡臭氣體分子氧化成二氧化碳（CO2）和水（H2O）等無機物。

工業(yè)廢氣吸收塔的廠家

HNO3廢氣處理工程設(shè)計方案內(nèi)容如下：

      1.HNO3廢氣處理設(shè)備基本原理:

      2.HNO3廢氣處理設(shè)備主要處理的廢氣組成、排放量： 光催化廢氣凈化器廠家介紹HNO3廢氣組成主要是氮氧化物，包括一氧化氮、二氧化氮、三氧化二氮、N2O4等。尾氣中含氧量為3%，CO0.1%-0.15%，CO22.0%-3.0%、氮氧化物4000mL/m3，堿吸收塔后壓頭（尾氣總管）1.8kPa，尾氣溫度為40-55度。研究結(jié)果表明，短波長的紫外光，尤其是在185~254nm，更有利于生成更多的˙OH，從而加快光催化反應(yīng)活性。

      3.HNO3廢氣處理設(shè)備及工程流程。

      4.HNO3廢氣處理設(shè)備的主要設(shè)備：尾氣洗滌塔，催化爐，廢熱鍋爐，旋風(fēng)分離器，廢熱鍋爐給水泵，循環(huán)機泵，填料，工藝管道，催化劑，土建。

      5.HNO3廢氣處理工藝控制條件：

      使用溫度：常溫-550度

      使用壓力：不限

       使用空速：3000-10000h-1，一般處于5000-6000h-1

      6.HNO3廢氣處理設(shè)備的處理效果： 光催化廢氣凈化器廠家處理后，廢氣NOx濃度4000mL/m3降到179mL/m3，其中通過堿吸收后廢氣中NOx濃度降到600mL/m3

      7.HNO3廢氣處理催化劑技術(shù)指標(biāo)。

      8.HNO3廢氣處理主要技術(shù)經(jīng)濟指標(biāo)。工業(yè)廢氣吸收塔的廠家