化學鍍鎳已進入發(fā)展成熟期

化學鍍鎳已進入發(fā)展成熟期，其目前的現狀可概括為：技術成熟、性能穩(wěn)定、功能多樣、用途廣泛。用化學鍍鎳沉積的鍍層，有一些不同于電沉積層的特性①以次磷酸鈉為還原劑時，由于有磷析出，發(fā)生磷與鎳的共沉積，所以化學鍍鎳層是磷呈彌散態(tài)的鎳磷合金鍍層，鍍層中磷的質量分數為1％～l5％，控制磷含量得到的鎳磷鍍層致密、無孔，耐蝕性遠優(yōu)于電鍍鎳。以硼氫化物或氨基為還原劑時，化學鍍鎳層是鎳硼合金鍍層，硼的含量為1％～7％。只有以肼作還原劑得到的鍍層才是純鎳層，含鎳量可達到99．5％以上。

鍍鉻層的性質和用途

鍍鉻層的性質和用途。鍍鉻層按其用途主要分為防護裝飾性鍍鉻和耐磨鍍鉻兩大類。前者的目的是防止基體金屬生銹和美化產品的外觀，后者的目的是提高機械零件的硬度、耐磨、耐蝕和耐溫等性能。鉻是稍帶藍色的銀白色金屬，在大氣中具有強烈鈍化能力，能長久保持光澤。鍍鉻層有很高的硬度和優(yōu)良的耐磨性，它的硬度為HV1000左右。 如果在標準鍍鉻溶液(鉻酸酐250g/L.硫酸2.5g/L)中進行鍍鉻，雖然鍍層厚度僅為0.25~0.5μm，但由于內應力高，鉻層表面分會產生稀疏的粗裂紋。這不僅造成鍍件外觀缺陷，更嚴重的是加重了底層的腐蝕，由于這一原因，發(fā)展了無裂紋鍍鉻工藝。雖然無裂紋鉻在加速腐蝕實驗和暴露實驗中具有良好的耐地性，但在使用過程中，鉻層仍要產生粗裂紋。 在特定條件下，鉻層表面的裂紋和孔隙不僅無害，反而能提高整個鍍層體系的耐蝕性。20世紀60年代中期，國外對鍍鉻層微觀結構進行了研究，開發(fā)了更耐蝕性的微裂紋鉻和微孔鉻新工藝。

拋光露出基體零件上進行補鍍也是常用的辦法

由于各種原因，或多或少會造成鎳鍍層的質量不合格，如能采取相應的補救措施，可減少不必要的退鍍返工。除了在不光亮、有毛刺的鍍層上進行拋光修復外，在不易拋光或者經拋光露出基體的零件上進行補鍍也是常用的辦法。 我們來了解下鍍鎳的補鍍問題，進行補鍍應根據零件的性質、形狀和要求選用不同的方法，如適宜鍍酸性銅的可以在表面活化后鍍件基體不露鐵的情況下，直接鍍銅、鍍鎳來進行補鍍，如不適宜鍍酸性銅或者鍍件基體露鐵的情況，應在表面活化后，直接鍍鎳進行補鍍。