蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中，從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線運(yùn)動(dòng)，直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內(nèi)，當(dāng)氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時(shí)，這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線飛行，否則，就會(huì)產(chǎn)生碰撞而改變運(yùn)動(dòng)方向。為此，增加殘余氣體的平均自由程，以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率，把真空室內(nèi)抽成高真空是必要的。當(dāng)真空容器內(nèi)蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱蒸距)時(shí)，就會(huì)獲得充分的真空條件。設(shè)蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L(zhǎng)，并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實(shí)際行程，λ為氣體分子的平均自由程，設(shè)從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子數(shù)為N0，在相距為L(zhǎng)的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數(shù)為N1，而且假設(shè)蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射，則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

PVD技術(shù)被認(rèn)為是取代電鍍方法zui理想的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用技術(shù)，有望成為裝飾鍍膜領(lǐng)域的重要技術(shù)手段，且已顯示出巨大競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。隨著人們的高質(zhì)量、高品位生活對(duì)PVD高xing能裝飾涂層的巨大需求，對(duì)現(xiàn)有PVD裝飾涂層提出了高耐磨、抗yang化、抗指紋的綜合功能裝飾性要求，掌握具有超硬、耐磨、耐氧化、耐酸堿等優(yōu)異性能的高質(zhì)量功能裝飾涂層的綠色鍍膜技術(shù)，是產(chǎn)品維持核心競(jìng)爭(zhēng)力的有利保證。PVD真空鍍膜生產(chǎn)線、自動(dòng)化拉絲生產(chǎn)線以及噴涂生產(chǎn)線組成的一整套清潔、環(huán)保、gao效的功能多彩膜連續(xù)生產(chǎn)線。經(jīng)檢驗(yàn)，檢驗(yàn)結(jié)果符合相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求，經(jīng)用戶使用，反應(yīng)良好，具有顯著的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度高達(dá)l05A／cm2～107A／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會(huì)產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場(chǎng)，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對(duì)刀具材料的抗彎強(qiáng)度無(wú)影響；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對(duì)硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層；PVD工藝對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當(dāng)前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，真空PVD鍍膜技術(shù)在壓鑄模具中的運(yùn)用真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過(guò)表面拋光的金屬材料的表面對(duì)鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右， 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制