真空鍍膜技術(shù)可增加五金飾品發(fā)展勢(shì)頭

五金飾品是今年來(lái)在中國(guó)制造業(yè)興起的產(chǎn)業(yè)，隨著我國(guó)生活水平的提高，人們對(duì)金屬產(chǎn)品的美觀感越來(lái)越重視。同時(shí)歐美市場(chǎng)本來(lái)就有五金裝飾的傳統(tǒng)，所以這個(gè)行業(yè)越來(lái)越有蓬勃發(fā)展的勢(shì)頭。

五金飾品的美觀感如何得來(lái)呢?這就要說(shuō)到鍍膜技術(shù)。

五金飾品美觀感需要使用真空鍍膜技術(shù)，需要采用磁控多弧離子鍍膜方式在物品表面鍍制金屬膜、氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻、及鈦、鎳、鉻、銅、等化合物膜、多層超硬膜、氮化鈦摻金膜和合金膜，增加產(chǎn)品美觀感，提高產(chǎn)品檔次。

真空鍍膜設(shè)備使用哪些領(lǐng)域

鍍膜技能在太陽(yáng)能運(yùn)用方面的運(yùn)用

當(dāng)需求有用地運(yùn)用太陽(yáng)熱能時(shí)，就要思考選用對(duì)太陽(yáng)光線(xiàn)吸收較多、而對(duì)熱輻射等所導(dǎo)致的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20?m之間的紅外波段。因?yàn)樘?yáng)輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因而，為了有用的運(yùn)用太陽(yáng)熱能，就必須思考選用具有波長(zhǎng)挑選特性的吸收面。抱負(fù)的挑選吸收面是太陽(yáng)輻射光譜的波段（可見(jiàn)光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。

鍍膜技能在刀具、模具等金屬切削加工東西方面的運(yùn)用

在生活中咱們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些即是通過(guò)鍍膜技能加工后的涂層?xùn)|西。

（1）金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層。（2）黑色的是在切削東西上涂了TiC、CrN涂層。（3）鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

鍍膜技能在信息存儲(chǔ)范疇中的運(yùn)用

薄膜資料作為信息記載于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)：因?yàn)楸∧ず鼙∧軌蚴韬鰷u流損耗；磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡(jiǎn)單保持等。

為了更精細(xì)地記載與存儲(chǔ)信息，必定要選用鍍膜技能。

鍍膜技能在傳感器方面的運(yùn)用

在傳感器中，多選用那些電氣性質(zhì)相關(guān)于物理量、化學(xué)量及其變化來(lái)說(shuō)，極為敏感的半導(dǎo)體資料。此外，其中大多數(shù)運(yùn)用的是半導(dǎo)體的外表、界面的性質(zhì)，需求盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低報(bào)價(jià)制造、因而選用薄膜的狀況許多。

真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成

真空鍍膜機(jī)等離子體束濺射鍍膜機(jī)主要由射頻等離子體源、真空獲得系統(tǒng)、電磁線(xiàn)圈（發(fā)射線(xiàn)圈及匯聚線(xiàn)圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。其顯著特點(diǎn)是它的等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)，其示意圖如圖1所示。等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)是鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側(cè)面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個(gè)電磁線(xiàn)圈。當(dāng)兩個(gè)線(xiàn)圈同向通過(guò)電流時(shí)，線(xiàn)圈合成的磁場(chǎng)將引導(dǎo)等離子體源中產(chǎn)生的電子沿磁場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng)，從而使等離子體束被約束在磁場(chǎng)方向上。同時(shí)靶材加有負(fù)偏壓，使濺射離子在電場(chǎng)的作用下加速撞擊靶表面，產(chǎn)生濺射作用。

真空鍍膜機(jī)等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)

真空鍍膜機(jī)這種鍍膜機(jī)具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過(guò)調(diào)節(jié)靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計(jì)是實(shí)現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵，而這種參數(shù)闊范圍的可控性使得特定的應(yīng)用能夠獲得優(yōu)化的工藝參數(shù)。此外，還可以通過(guò)控制系統(tǒng)的真空度來(lái)進(jìn)行濺射速率的調(diào)節(jié)。

真空鍍膜機(jī)中所示曲線(xiàn)為靶電流與偏壓曲線(xiàn)、恒定電流密度時(shí)濺射速率與靶偏壓的關(guān)系，其中恒定電流時(shí)射頻功率為500W。

真空鍍中對(duì)底涂層的要求：

①對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。

③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r(shí)間短。

真空鍍對(duì)面涂層的要求：

①與鍍膜層要有良好的接觸性能;

②與底涂層要有一定的相溶性;

③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;

④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強(qiáng)。

由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。