真空鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進被鍍物件的表層上。該項技術(shù)性用以生產(chǎn)制造光學激光鏡片，如遠洋航行望遠鏡鏡片等；后拓寬到別的作用塑料薄膜，游戲設(shè)備鍍鋁膜、裝飾設(shè)計鍍膜和原材料表層改性材料等，納米鍍膜生產(chǎn)商，如腕表機殼鍍仿金黃，機械設(shè)備數(shù)控刀片鍍膜，更改生產(chǎn)加工紅強制。真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。真空鍍膜的作用是各個方面的，這也決策了其運用場所比較豐富。整體而言，真空鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導電性實際效果。

       真空鍍膜技術(shù)性被稱作發(fā)展前景的關(guān)鍵技術(shù)性之一， 鍍膜企業(yè)并已在高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的發(fā)展趨勢中展示出的行業(yè)前景。

       真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢?，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實現(xiàn)互補，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機應(yīng)運而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       首先給大家解釋一下為什么是叫納米鍍膜液，其實這個稱呼是市場上大家自發(fā)形成的一種叫法，因為該產(chǎn)品在手機屏幕表面附著后，是一層透明的并且是納米級的膜層，所以叫納米鍍膜液是比較符合該產(chǎn)品的特征，另外，這個產(chǎn)品表面附著的原理是通過分子結(jié)構(gòu)的反應(yīng)附著，提升一定致密度，那么，做過和未做前后大的區(qū)別是什么呢？，做過鍍膜的會有疏水疏油，也就是說有防污易潔的效果，市面上有些人會拿大頭筆去畫線來判斷該功能性；第二，做過鍍膜后有很好的爽滑手感，對使用手機玩游戲時有較好的體驗感；第三，做過鍍膜后，并不會因為膜層影響清晰度和透明度；以上兩幾點是我個人認為較大的差異，至于有人拿錘子砸，拿刀片劃等等，這個我個人認為是有的嫌疑。