鍍膜機(jī)廠家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對(duì)于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來(lái)說(shuō)，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的測(cè)試的方法很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機(jī)廠家就來(lái)為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說(shuō)就是鍍膜機(jī)廠家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點(diǎn)，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來(lái)說(shuō)是一種更適合對(duì)真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)測(cè)方法。

真空離子鍍膜機(jī)的自動(dòng)化發(fā)展

真空離子鍍膜機(jī)是太陽(yáng)能真空管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，隨著自動(dòng)化技術(shù)的發(fā)展，其工藝要求及自動(dòng)化程度也越來(lái)越高。

開始的真空離子鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)采用繼電器控制，由模擬線路板及單片機(jī)等電路組成實(shí)現(xiàn)控制功能，因線路繁雜以及電子元器件的不穩(wěn)定造成設(shè)備性能的不穩(wěn)定，并且給維修工作帶來(lái)很大困難，另外操作界面不直觀，誤操作現(xiàn)象時(shí)有發(fā)生。

目前，真空離子鍍膜機(jī)已廣泛采用PLC可編程器設(shè)計(jì)控制系統(tǒng)，該技術(shù)已相當(dāng)成熟，基本取代了單片機(jī)，并采用先進(jìn)的人機(jī)界面觸摸屏進(jìn)行更加直觀的人機(jī)對(duì)話，可方便地設(shè)定參數(shù)，由控制系統(tǒng)按工藝流程分步或自動(dòng)運(yùn)行，具有各種系統(tǒng)保護(hù)以及故障提示、報(bào)警信息等功能，并且通過利用PLC通訊功能，與上位機(jī)通訊，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空離子鍍膜機(jī)工藝流程的全程監(jiān)控，以便工程師及時(shí)發(fā)現(xiàn)并處理故障信息以及遠(yuǎn)程修改工藝參數(shù)等，較大地方便了生產(chǎn)過程質(zhì)量控制和管理。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

清洗過程簡(jiǎn)化

現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過程。清洗效果較好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強(qiáng)了附著力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。

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