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發(fā)布時間:2020-12-06 17:55  
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基本專利是一種設(shè)備。從研發(fā)應(yīng)用,寫作標準,使用和促進到價值形成的基礎(chǔ)專利的培養(yǎng)過程,通常需要幾年甚至幾十年,投入成本高,失敗的風險高。改進后的專利是一種投資小,時間短,針對性強的傳統(tǒng)設(shè)備,但易于更換,無效。企業(yè)無需在自主研發(fā)基礎(chǔ)專利方面投入大量資源。結(jié)果,他們不僅沒有開發(fā)基礎(chǔ)專利,而且還沒有形成提高專利的優(yōu)勢,終失去了競爭力。華為總裁任正非在2005年承認華為仍然沒有基本專利。在技術(shù)和資金實力不占優(yōu)勢的中國企業(yè)中,更加注重改進專利布局是更合理的選擇。在20世紀70年代,日本經(jīng)濟的崛起導(dǎo)致大量攻擊歐洲和美國的專利,松下公司代表日本公司為此目的增加了研發(fā)投資,瘋狂申請改進歐美基礎(chǔ)專利專利并形成了對歐美基礎(chǔ)專利的包圍,有效了歐美專利的攻擊。

深圳聯(lián)邦知識產(chǎn)權(quán)局國家代表處成立于2010年8月2日。是國家工商總局批準的深圳市家美國知識產(chǎn)權(quán)代理機構(gòu)和深圳市市場監(jiān)督管理局(知識產(chǎn)權(quán)局)物業(yè)辦公室)。它是一家專利,商標和版權(quán)機構(gòu),專門從事美國和世界的企業(yè)和發(fā)明人。關(guān)于知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)的聯(lián)絡(luò)工作。美國聯(lián)邦知識產(chǎn)權(quán)局深圳代表處的目的是為中國所有主要的中小企業(yè)和獨立發(fā)明人提供中國知識產(chǎn)權(quán)法律服務(wù)。深圳代表處的成立是為了讓發(fā)明人和美國知識產(chǎn)權(quán)代理機構(gòu)更容易,更快捷地聯(lián)系和聯(lián)系。這是中國的窗口。專利管理的收入不僅與企業(yè)的主營業(yè)務(wù)相比微不足道,而且往往影響企業(yè)的創(chuàng)新能力和市場判斷,掩蓋企業(yè)主營業(yè)務(wù)遇到的困難,并導(dǎo)致企業(yè)的判斷。決策者錯了。如果你離開制造業(yè),就沒有專利的地方了。即使它存在,它也將是短暫的。

多年來中國的專利申請量位居世界,甚至超過了美國,日本,德國,英國和韓國等主要國家的總和。 2017年,中國接受了138萬項發(fā)明專利和168萬項實用新型專利。 2017年,世界上所有其他國家提交的發(fā)明專利數(shù)量為179萬。換句話說,中國的專利申請數(shù)量已經(jīng)超過了所有其他國家的總和。清華大學(xué)一年的專利申請量是斯坦福大學(xué)的11倍,是加州理工學(xué)院的15倍,清華大學(xué)的專利申請增長率仍在增長。在全球前100名專利申請人中,中國大學(xué)占14席。哈佛大學(xué),牛津大學(xué)和劍橋大學(xué)等世界學(xué)校每年申請的專利數(shù)量少于中國職業(yè)技術(shù)學(xué)院。即使在中國的一些中學(xué),武漢的一所中學(xué)也申請了5000多項專利。為什么中國的許多公司和大學(xué)能夠以如此低的成本申請專利?秘訣是這些專利大部分都是申請。讀者必須注意專利申請。這并不意味著所申請的專利如此強大,以至于它可以十萬次自我毀滅,但它是徹底的。也就是說,在申請之前,專利主動刪除了專利功能,不能排除競爭對手。就像一個在決斗之前在他的脖子上擦刀,或者自毀武術(shù),這可能意味著。這些專利幾乎沒有任何有意義的保護范圍,因此無論誰寫的都沒關(guān)系,即使不懂技術(shù)和法律的人也可以寫,所以成本可以很低。但是,這些專利沒有實際價值,只能用于申請補貼和獎勵。如果它不用于應(yīng)對指標或申請補貼,申請專利是浪費金錢,無論價格多么低是浪費。
可專利性檢索一般步驟為:
(1)在全球范圍內(nèi)檢索所有公開出版物,通過閱讀專利標題、摘要,確定與檢索主題的相關(guān)程度,找到相近的發(fā)明創(chuàng)造技術(shù)文獻。對于密切相關(guān)的專利文獻,要閱讀專利全文。(2)經(jīng)過篩選后的對比專利,與查新的技術(shù)點進行對比分析。確定對比文獻是否可以影響到查新技術(shù)的新穎性,若不影響新穎性,則要對查新技術(shù)的創(chuàng)造性進行檢索。對于專利查新的檢索結(jié)果分析部分,對比文獻的相關(guān)度,可以參考世界專利合作條約組織(PCT)和歐洲專利局(EPO)的檢索報告以及國家的知識產(chǎn)權(quán)局的專業(yè)人員出具的檢索報告,文獻對比分析部分可以借鑒專利對比文獻相關(guān)度的表示符號,X:單獨影響權(quán)利要求新穎性的文件,Y:與檢索報告中其他Y類文件組合影響權(quán)利要求創(chuàng)造性的文件;A:背景技術(shù)文件,即反應(yīng)權(quán)利要求的部分技術(shù)特征或者現(xiàn)有技術(shù)一部分的文件;E:單獨影響權(quán)利要求新穎性的抵觸申請文件。