該裝置由汽化爐、分解爐、重合室這3個部分組成，在重合室中放置對象物品，在汽化爐中放置Parylene (粉體)。

       在裝置內(nèi)進行減壓操作后，升高汽化爐的溫度（120~180℃），使Parylene升華。 通過真空泵將該氣體引導至蒸汽粘合室，通過高溫（650~700℃）分解爐后，生成熱分解單體。該單體在室溫狀態(tài)下的重合室內(nèi)與對象物品相接觸，其含有的熱量被傳導后在對象物品的表面進行聚合，形成高分子量的聚對二樹脂膜。

       Parylene涂敷是由活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成，氣態(tài)的小分子能滲透到任何一個細小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。微米級涂層能對印制電路組件的表面提供非?？煽康姆雷o，既不會對基材形成傷害，而且有利于元器件散熱?？朔藗鹘y(tǒng)液體涂料厚度不均勻，涂敷不完全等缺點；在傳感器領(lǐng)域中，Parylene除了作絕緣介質(zhì)外，更多用作防護材料，它能耐酸、堿和，對水汽和鹽霧等惡劣環(huán)境有的阻隔防護能力，用極薄的涂層提供良好的防護；

       派瑞林（Parylene）它可在真空下氣相沉積，派瑞林（Parylene）活性分子的良好透力能在元件內(nèi)部、底部，周圍形成無，厚度均勻的透明絕緣涂層，給元件提供一個完整的防護涂層，抵御酸堿、鹽霧、霉菌及各種腐蝕性氣件的侵害，因為Parylene不是液體，所以涂敷過程中不會聚集，橋接式形成彎月面。

       釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。目前國內(nèi)常用兩種方法進行防護，一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時會影響磁性材料的表磁等特性，有的在鹽霧試驗時仍不能對釹鐵硼磁性材料提供有效的防護。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進行電泳涂敷，但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點，掛點的修補不僅費工費時，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進行無支點全涂敷防護。派瑞林（Parylene）又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）進行防護。

       用制備派瑞林的方法是化學氣相沉積法(CVD)，反應物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學反應，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個相連碳碳鍵斷裂，生成具有活性的對二亞苯單體，當其從高溫環(huán)境進入室溫環(huán)境的沉積室時，不穩(wěn)定的單體就會聚合成膜。整個制備工藝過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。