物理氣相沉積技術(shù)基本原理可分三個(gè)工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發(fā)，異華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞后，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。

認(rèn)識(shí)PVD物理氣相沉積技術(shù)

物理氣相沉積技術(shù)工藝過程簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境改善，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結(jié)合力強(qiáng)。該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤(rùn)滑、超導(dǎo)等特性的膜層。

CVD 制備銥高溫涂層人們之所以對(duì)作涂層材料感興趣是由于這類金屬優(yōu)良的性能 。銥具有較強(qiáng)的能力和較高的熔點(diǎn)而受到重視, 是一種較理想的高溫涂層材料 。

20 世紀(jì) 60 年代以來, 世界航空航天技術(shù)飛速發(fā)展,一些高熔點(diǎn)材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用,但這些材料的一個(gè)共同的致命缺點(diǎn)是能力差。

60 年代美國(guó)材料實(shí)驗(yàn)室(AFML)對(duì)石墨碳的銥保護(hù)涂層進(jìn)行過大量的研究, 采用了多種成型方法制備銥涂層 ,其中包括化學(xué)氣相沉積法 。雖然沒有制備出質(zhì)量令人滿意的厚銥涂層, 但仍認(rèn)為 CVD 是一種非常有希望且值得進(jìn)一步研究的方法。

不銹鋼基材真空物理氣相沉積鍍工藝，生產(chǎn)“黃金卷”

這種鋼卷以不銹鋼為基材，通過PVD（真空物理氣相沉積鍍工藝）制造成所需顏色，該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤(rùn)滑、超導(dǎo)等特性的膜層。日常生活中以手表的外殼、表帶為常見，另外就是家電、裝飾材料等。

濺射（或陰極噴涂）和蒸發(fā)是用于薄膜沉積的常用的PVD方法。

在PVD技術(shù)中，釋放或碰撞的熱物理過程將要沉積的材料（目標(biāo)）轉(zhuǎn)化為原子粒子，然后在真空環(huán)境中在氣態(tài)等離子體條件下將原子粒子定向到基材，通過冷凝或化學(xué)反應(yīng)生成物理涂層。投射原子的積累。該技術(shù)的結(jié)果是，要沉積的材料類型具有更高的靈活性，并且可以更好地控制沉積膜的成分。連接到高壓電源和真空室的兩個(gè)電極構(gòu)成了PVD反應(yīng)器。