什么是光學(xué)鍍膜：

光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

光學(xué)鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進(jìn)行的涂料，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發(fā)涂層通常是加熱目標(biāo)，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā)，并通過(guò)成膜方法（散射島結(jié)構(gòu)-梯形結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）沉積在基材的表面上，薄膜。

對(duì)于濺射狀涂層，很容易理解目標(biāo)材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。

2、氧化鋯材料特點(diǎn)白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn)。

小型實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)

小型實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹(shù)脂工藝品，玻璃等經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍(lán)、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產(chǎn)品檔次，外觀更顯華貴作用。采用電阻熱蒸發(fā)方式進(jìn)行鍍膜、功能齊全，適應(yīng)性強(qiáng)的特點(diǎn)?？梢圆捎秒娮枵舭l(fā)鍍，電弧鍍或磁控濺射鍍。

小型實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹(shù)脂工藝品，玻璃等經(jīng)真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍(lán)、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產(chǎn)品檔次，外觀更顯華貴作用。實(shí)驗(yàn)用真空鍍膜機(jī)具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、易維護(hù)的特點(diǎn)?？蓪?shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制或手動(dòng)控制、操作簡(jiǎn)單可靠，可自動(dòng)完成各種鍍膜工藝參數(shù)。可以采用電阻蒸發(fā)鍍，電弧鍍或磁控濺射鍍。不管是哪種鍍膜方式均可用于科研、教學(xué)、電子元件、及涂料生產(chǎn)等行業(yè)的表面表面鍍膜，可電鍍鋁、錫、銅、鉻等金屬。

熱成型模真空鍍膜機(jī)

高強(qiáng)度材料熱沖壓熱成型模真空鍍膜機(jī)高強(qiáng)度合金鋼的熱沖壓與熱成形是金屬成形領(lǐng)域中一種發(fā)展快的趨勢(shì)。在這些領(lǐng)域中所使用工具的磨損主要為磨粒磨損和粘著磨損，并且需要經(jīng)歷要求嚴(yán)苛的熱環(huán)境條件。HC物理氣相沉積涂層展現(xiàn)了其高韌性，耐磨性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。

HC35,HC22與HC30結(jié)合滲氮處理的涂層常用于熱沖壓應(yīng)用過(guò)程中。

壓鑄，金屬注射成型壓鑄與金屬注射成型過(guò)程中所使用的模腔，模仁與鑲件必須經(jīng)受嚴(yán)峻的高溫，腐蝕以及磨損條件。HC物理氣相沉積涂層與HC化學(xué)氣相沉積涂層具有高韌性，熱穩(wěn)定性，耐磨性以及抗腐蝕性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率與產(chǎn)品的質(zhì)量。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過(guò)光學(xué)干涉機(jī)制的反射光和透射光。當(dāng)兩個(gè)光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時(shí)，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位（180°位移）時(shí)，其疊加會(huì)導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。

光的波長(zhǎng)和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會(huì)影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長(zhǎng)度，并將在光透射時(shí)改變相位值。這種效應(yīng)可簡(jiǎn)單地通過(guò)單層增透膜例子說(shuō)明。當(dāng)光傳輸穿過(guò)系統(tǒng)時(shí)，在鍍膜任一側(cè)的兩個(gè)接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了盡量減少反射，我們希望它們?cè)趥€(gè)接口重組時(shí)，這兩個(gè)反射部分具有180°的相位移。這個(gè)相位差異直接對(duì)應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過(guò)將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得良好實(shí)現(xiàn)。