真空鍍膜定義真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。顧名思義真空鍍膜是在真空狀態(tài)下，一般指空氣壓強(qiáng)在10-1～l0-4Pa 范圍，形成的薄膜層一般在l0 微米左右厚度。

陽(yáng)極氧化：應(yīng)用于金屬反光杯。有效反光率不到真空鍍鋁的一半。優(yōu)點(diǎn)是不怕紫外線、紅外線的損害，甚至可以用水清洗。

真空鍍膜的效果是什么呢？

1、增加鍍層與基材表面的附著力。

2、封閉基材內(nèi)的殘留物，確保鍍膜質(zhì)量　　

通過(guò)涂層來(lái)封閉基材內(nèi)的殘留物、腐蝕性氣體殘留及脫模劑潤(rùn)滑劑等油脂性分子殘留，防止真空鍍膜時(shí)或工件使用過(guò)程中基材中的這些揮發(fā)性雜質(zhì)溢出，影響鍍膜質(zhì)量。

3、提高基材表面平整度，確保鏡面鍍膜效果

得到理想的鏡面反射效果?？商钇交谋砻娴娜毕莶⒌玫嚼硐氲恼婵斟兡そ饘俟鉂尚Ч?。

各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)蒸發(fā)源或蒸發(fā)靶，以便將蒸發(fā)的成膜物質(zhì)轉(zhuǎn)化為氣體。隨著來(lái)源或目標(biāo)的不斷提高，制作材料的選擇范圍也大大擴(kuò)大。無(wú)論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機(jī)物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時(shí)氣相沉積得到多層膜。

蒸發(fā)或?yàn)R射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過(guò)程。膜厚可以測(cè)量和控制。磁控鍍膜機(jī)的真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學(xué)氣相沉積。

對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。LED燈反光杯廠家

真空鍍膜加工對(duì)于 高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。LED燈反光杯廠家

真空鍍膜加工清除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工 作間。

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