PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)介紹

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

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脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點(diǎn)有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發(fā)源或?yàn)R射源

?  可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺(tái)

?  流量計(jì)或針閥準(zhǔn)確控制氣體流量

?  標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室

?  可選配基片-靶材距離自動(dòng)控制系統(tǒng)

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設(shè)備

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